特許
J-GLOBAL ID:200903013966715197
浄化装置
発明者:
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出願人/特許権者:
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代理人 (1件):
恩田 博宣 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-165898
公開番号(公開出願番号):特開2001-062253
出願日: 2000年06月02日
公開日(公表日): 2001年03月13日
要約:
【要約】【課題】紫外線により発生するオゾンを被処理流体に混入させることなく、光触媒作用により分子レベルの汚染物質を効率よく除去できる浄化装置を提供する。【解決手段】流体通路としての第1パイプ3内に、光触媒(酸化チタン)の薄膜が内外面に形成された第2パイプ9が複数本配設される。第1パイプ3の上流側の配管5に送風機7が配設され、その送風機7によりクリーンルームからの空気が第1パイプ3内に流入される。第1パイプ3と平行に紫外線ランプ4が配設され、同ランプ4によって、紫外線が第1パイプ3に効率よく照射される。紫外線が、第1パイプ3の内面及び第2パイプ9の内外面に形成される光触媒薄膜に照射されることで、その光触媒が励起する。この光触媒に空気が接触して空気中の分子レベルの汚染物質が酸化分解される。
請求項(抜粋):
紫外線を透過する透明材により形成される流体通路と、その通路内に配設され、内外面に光触媒の薄膜が形成された複数の透明パイプとを有し、前記流体通路に気体又は液体の被処理流体を流通させるとともに、その流体通路の側面から照射する紫外線により前記光触媒を励起することを特徴とする浄化装置。
IPC (2件):
FI (3件):
B01D 53/36 J
, B01J 35/02 J
, B01J 35/02 C
Fターム (26件):
4D048AA00
, 4D048AB01
, 4D048BA07X
, 4D048BA41X
, 4D048BB05
, 4D048BB12
, 4D048CA07
, 4D048CC04
, 4D048CC06
, 4D048CC22
, 4D048CC33
, 4D048CC40
, 4D048CD10
, 4D048EA01
, 4G069AA01
, 4G069AA03
, 4G069AA08
, 4G069AA11
, 4G069BA04B
, 4G069BA48A
, 4G069CA01
, 4G069CA05
, 4G069CA07
, 4G069DA06
, 4G069EA08
, 4G069EC22Y
引用特許:
審査官引用 (6件)
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水浄化装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平8-187335
出願人:ウシオ電機株式会社
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浄化装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平9-137736
出願人:角谷知司
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特開昭63-040705
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特開昭63-040705
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空気清浄機
公報種別:公開公報
出願番号:特願平10-306339
出願人:有限会社イメージラボテクスト
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光触媒装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平11-017373
出願人:株式会社日立製作所
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