特許
J-GLOBAL ID:200903014014328552
放射線源、リソグラフィ装置およびデバイス製造方法
発明者:
,
,
,
,
,
出願人/特許権者:
代理人 (4件):
浅村 皓
, 浅村 肇
, 森 徹
, 岩本 行夫
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2003-376283
公開番号(公開出願番号):特開2004-165160
出願日: 2003年09月30日
公開日(公表日): 2004年06月10日
要約:
【課題】放射線への電気エネルギーの変換効率を改善する放射線源を提供する。【解決手段】アノードとカソードとの間の空間内の物質内で放電を行い、電磁放射線を生成するためにプラズマを形成するように構成される。液体は、キセノン、インジウム、リチウム、錫、または任意の適当な材料を含むことができる。変換効率を改善するために、放射線源ユニットは、インダクタンスが低くなるように、また最小のプラズマで動作するように構成される。熱の消散を改善するために、流体循環システムが、その気相および液相の両方で流体を使用することにより上記放射線源空間およびウィック内に形成される。汚染物がリソグラフィ投影装置に入り込むのを防止するために、放射線源ユニットは、汚染物の生成を最低限度に抑えるように構成され、放出される放射線と干渉を起こさないで、汚染物を捕捉するためにトラップが使用される。【選択図】図2
請求項(抜粋):
放射線源であって、アノードおよびカソードを備え、該アノードおよびカソードが、該アノードとカソードとの間の放電空間内の物質内で放電を行い、電磁放射線を生成するためにプラズマを形成するように構成され、配置されていて、前記放電空間を形成している壁部の灯心現象による液供給表面領域が、該灯心現象による液供給表面領域と接触している液体タンクから前記放電空間に向かって液体を移送するための灯心現象による液供給機能を有することを特徴とする放射線源。
IPC (7件):
H05G2/00
, G03F7/20
, G21K5/00
, G21K5/02
, G21K5/08
, H01L21/027
, H05H1/24
FI (9件):
H05G1/00 K
, G03F7/20 504
, G03F7/20 505
, G21K5/00 Z
, G21K5/02 X
, G21K5/08 X
, G21K5/08 Z
, H05H1/24
, H01L21/30 531S
Fターム (9件):
2H097AA03
, 2H097CA17
, 2H097LA10
, 4C092AA04
, 4C092AA15
, 4C092AB19
, 4C092AB21
, 4C092AC09
, 5F046GC03
引用特許:
前のページに戻る