特許
J-GLOBAL ID：200903014026930975
プラズマ絞り装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
大島 陽一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-052996
公開番号（公開出願番号）：特開平6-243993
出願日： 1993年02月17日
公開日（公表日）： 1994年09月02日
要約：
【要約】【目的】 プラズマ処理装置に於ける処理対象(基板)の大きさに応じてプラズマの照射面積を変更可能とする。【構成】 プラズマ放出口の後に絞りを有する遮蔽板を設置することにより、基板の必要な部分にのみプラズマを照射することができ、基板の加熱を最小限に抑えることができ、また不要な部分への膜の堆積或いはエッチングを防止でき、装置を痛めることがない。ここで、プラズマ遮蔽板を導電体とし、空間電位(space potential:プラズマ固有の電圧)のバイアスを印加すれば、プラズマ流を乱すことなく照射したい部分のみに照射できるプラズマ流に整形することができる。
請求項（抜粋）：
プラズマ源のプラズマ放出口の後に設置され、プラズマを部分的に遮蔽して任意の大きさにするための絞り通路が設けられた遮蔽板を有することを特徴とするプラズマ絞り装置。
IPC (5件)：
H05H 1/46
, C23F 4/00
, H01L 21/205
, H01L 21/302
, H01L 21/31
