特許
J-GLOBAL ID:200903014027145503

殺菌消毒剤組成物、毛髪用洗浄剤組成物及び食器用洗浄剤組成物

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 長谷川 芳樹 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-100860
公開番号(公開出願番号):特開2002-293704
出願日: 2001年03月30日
公開日(公表日): 2002年10月09日
要約:
【要約】【課題】 殺菌消毒剤などによる皮膚障害に対して有効な保護作用を示す肌荒れ防止用添加物を含んでなる殺菌消毒剤組成物などを提供すること。【解決手段】 殺菌消毒剤と、タンニン酸、下記一般式(I)、(II)、(III)で表される没食子酸及び没食子酸誘導体、並びに下記一般式(IV)で表されるエラグ酸及びエラグ酸誘導体からなる群から選ばれる、経表皮性水分喪失(TEWL)を抑制する少なくとも1種の肌荒れ防止用添加物と、を含有することを特徴とする殺菌消毒剤組成物。【化1】(R1、R2、R3は水素原子、炭化水素基など、Gはガロイル基、p、q、rは1〜4の整数を表す。)【化2】(R4、R5、R6、R7は水素原子、炭化水素基などを表す。)
請求項(抜粋):
殺菌消毒剤と、タンニン酸、下記一般式(I)、(II)、(III)で表される没食子酸及び没食子酸誘導体、並びに下記一般式(IV)で表されるエラグ酸及びエラグ酸誘導体からなる群から選ばれる、経表皮性水分喪失(TEWL)を抑制する少なくとも1種の肌荒れ防止用添加物と、を含有することを特徴とする殺菌消毒剤組成物。【化1】(式(I)、(II)、(III)中、R1、R2、R3はそれぞれ水素原子、炭素数1〜22の飽和炭化水素基、炭素数2〜22の不飽和炭化水素基、単糖の残基、2〜7糖のオリゴ糖の残基、及び多価アルコール残基からなる群から選ばれるいずれかを表し、Gはガロイル基を表し、p、q、rはそれぞれ1〜4の整数を表す。)【化2】(式(IV)中、R4、R5、R6、R7はそれぞれ水素原子、炭素数1〜22の飽和炭化水素基、炭素数2〜22の不飽和炭化水素基、及び一般式:-(AO)n-Hで表される基[Aは炭素数2〜3のアルキレン基を表し、nは1〜20の整数を表す]からなる群から選ばれるいずれかを表す。)
IPC (8件):
A01N 25/32 ,  A01N 25/00 101 ,  A01N 33/04 ,  A61K 7/075 ,  A61K 45/00 ,  A61P 17/00 101 ,  C11D 3/20 ,  C11D 3/48
FI (8件):
A01N 25/32 ,  A01N 25/00 101 ,  A01N 33/04 ,  A61K 7/075 ,  A61K 45/00 ,  A61P 17/00 101 ,  C11D 3/20 ,  C11D 3/48
Fターム (34件):
4C083AC122 ,  4C083AC392 ,  4C083AC471 ,  4C083AC642 ,  4C083AC782 ,  4C083AC841 ,  4C083AD201 ,  4C083CC38 ,  4C084AA19 ,  4C084NA06 ,  4C084ZA902 ,  4H003AB27 ,  4H003AB31 ,  4H003AC13 ,  4H003BA12 ,  4H003DA02 ,  4H003DA17 ,  4H003EB04 ,  4H003EB07 ,  4H003EB09 ,  4H003EB18 ,  4H003EB43 ,  4H003ED02 ,  4H003FA02 ,  4H003FA21 ,  4H011AA02 ,  4H011BA03 ,  4H011BB04 ,  4H011BB06 ,  4H011BB09 ,  4H011BC03 ,  4H011BC06 ,  4H011BC08 ,  4H011DA13
引用特許:
審査官引用 (7件)
  • 咽頭粘膜用組成物
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平10-283060   出願人:大正製薬株式会社
  • 特開昭61-238718
  • 洗髪用化粧料
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平7-117765   出願人:鐘紡株式会社
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