特許
J-GLOBAL ID：200903014037412267
露光方法および露光装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
志賀 正武 (外5名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-106723
公開番号（公開出願番号）：特開平11-307415
出願日： 1998年04月16日
公開日（公表日）： 1999年11月05日
要約：
【要約】【課題】 結像性能が変化した場合でも補正ストロークを節約して結像性能の補正に要する時間短縮化を図ることを目的とする。【解決手段】 所定雰囲気に設置された投影光学系14を介して露光光によりレチクル(マスク)11のパターンをウェハ(基板)18上に転写する露光方法において、露光光の照射熱や所定雰囲気の変化に伴う投影光学系14の結像性能の変化に応じて、結像性能制御部17は、照射熱の吸収量や所定雰囲気の変化から予定される結像性能の変化した値より少ない値を補正対象値と設定し、結像性能補正手段16は、この補正対象値に基づいて結像性能を補正する。
請求項（抜粋）：
所定雰囲気に設置された投影光学系を介して露光光によりマスクのパターンを基板上に転写する露光方法において、前記露光光の照射熱や前記所定雰囲気の変化に伴う前記投影光学系の結像性能の変化に応じて、当該照射熱の吸収量や当該所定雰囲気の変化から予定される前記結像性能の変化した値より少ない値を補正対象値とし、当該補正対象値に基づいて当該結像性能を補正することを特徴とする露光方法。
IPC (2件)：
FI (4件)：
H01L 21/30 515 D
, G03F 7/207 H
, H01L 21/30 516 A
, H01L 21/30 516 F
