特許

J-GLOBAL ID：200903014037709359

重合体ニトロキシド、その製造及び使用

発明者： ネスヴァドバ,ペーター ,  ビュニョン・フォルガー,リュシエンヌ
出願人/特許権者： チバ ホールディング インコーポレーテッド
代理人 (3件)： 津国 肇 ,  束田 幸四郎 ,  齋藤 房幸
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-515180
公開番号（公開出願番号）：特表2008-545863
出願日： 2006年05月29日
公開日（公表日）： 2008年12月18日
要約：

本発明は、基移動重合により重合体ニトロキシドラジカルを製造する方法に関する。本発明の更なる態様は、ニトロキシドラジカルを有する重合体はもとより、その使用、特に有機ラジカル電池の活性電極材料としての使用である。

請求項（抜粋）：

繰返し単位1個あたり1または2個のニトロキシドラジカルを有する重合体ニトロキシドを製造する方法であって、式(I):

IPC (2件)：

C08F 20/36 ,  H01M 4/60

FI (2件)：

C08F20/36 ,  H01M4/60

Fターム (31件)：

4J100AL08P ,  4J100AL62Q ,  4J100AL63Q ,  4J100AL65Q ,  4J100BA01P ,  4J100BA08Q ,  4J100BC04Q ,  4J100BC45Q ,  4J100BC64P ,  4J100BC73P ,  4J100BC74P ,  4J100BC75Q ,  4J100BC79P ,  4J100BC80P ,  4J100CA01 ,  4J100CA04 ,  4J100DA01 ,  4J100DA04 ,  4J100FA03 ,  4J100FA08 ,  4J100FA19 ,  4J100GC17 ,  4J100GC25 ,  4J100JA15 ,  4J100JA45 ,  5H050CA19 ,  5H050CA21 ,  5H050CB19 ,  5H050GA11 ,  5H050HA01 ,  5H050HA02