特許

J-GLOBAL ID：200903014037924586

複数処理装置

発明者： 坪根 恒彦 ,  田村 直行 ,  加藤 重和 ,  西畑 廣治 ,  伊藤 温司
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所
代理人 (1件)： 高田 幸彦 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-104351
公開番号（公開出願番号）：特開平10-313041
出願日： 1989年12月13日
公開日（公表日）： 1998年11月24日
要約：

【要約】【課題】各処理室の相互汚染がなく、保守性が良い連続で複数の処理が行える複数真空処理装置を得る。【解決手段】試料を処理開始から終了まで、又は一つ以上の処理の間、真空に保持し、複数の真空室で処理を行う装置であって、真空室の試料の移動を、真空室を移動および結合できる真空室を介して行う。

請求項（抜粋）：

試料を処理開始から終了まで、又は一つ以上の処理の間、真空に保持し、複数の真空室で処理を行う装置において、前記真空室の前記試料の移動を、前記真空室を移動および結合できる真空室を介して行うことを特徴とする複数真空処理装置。

IPC (2件)：

H01L 21/68 ,  B01J 3/02

FI (2件)：

H01L 21/68 A ,  B01J 3/02 N

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開平3-184331
  
• 特開昭63-028047
  
• 特開昭62-087749