特許
J-GLOBAL ID：200903014048691141
金属薄膜の製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
千葉 博史
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-098590
公開番号（公開出願番号）：特開平6-158379
出願日： 1992年03月26日
公開日（公表日）： 1994年06月07日
要約：
【要約】【目的】 金属薄膜の製造方法の提供【構成】 目的金属の金属塩水溶液の液面を有機液体で覆い、この二液相界面にカソードを静置して電解を行ない、該カソード先端に析出し成長する目的金属薄膜とアノードとの距離を制御して目的金属の薄膜を連続的に析出させることを特徴とする金属薄膜の製造方法。【効果】 本方法によれば、数ミクロン程度の膜厚が均一で結晶方位に揃った金属薄膜を容易に製造することができる。また本方法は、従来の電解方法のようなカソード面に析出させた目的金属を剥離するものとは異なり、有機液体/金属塩水溶液界面に目的の金属薄膜を析出成長させ、これを順次巻取ることにより連続的に金属薄膜を製造するので剥離作業の必要がなく、製造が極めて容易である。
請求項（抜粋）：
目的金属の金属塩水溶液の液面を有機液体で覆い、この二液相界面にカソードを静置して電解を行ない、該カソード先端に析出し成長する目的金属薄膜とアノードとの距離を制御して目的金属の薄膜を連続的に析出させることを特徴とする金属薄膜の製造方法。
IPC (2件)：
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