特許
J-GLOBAL ID：200903014074798485
遮光層、遮光層の形成方法および基板の製造方法
発明者：
,
,
,
,
出願人/特許権者：
,
代理人 (1件)：
酒井 一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-209427
公開番号（公開出願番号）：特開平9-054203
出願日： 1995年08月17日
公開日（公表日）： 1997年02月25日
要約：
【要約】【構成】グラフト化炭素材料を含み、電着塗装により形成された遮光層とその形成方法、及び透明基板上に形成された透明導電層上にポジ型又はネガ型感光性塗膜を形成し、その所定領域を露光し、塗膜の一部を現像除去して透明導電層を露出させ、その上にグラフト化炭素材料を含む塗料を電着塗装して遮光層を形成し、得られた基板を加熱処理する工程を含む遮光層を備えた基板の製造方法。【効果】前記遮光層は精細度、遮光能が高く、光反射率が低く、導電性を任意に制御でき、十分な精度をもって簡便に形成することができ、液晶表示装置等に用いられるカラーフィルターまたは白黒表示TFTアレイ基板用対向電極基板等の作成に有用である。また前記遮光層の形成方法では、前記遮光層を十分な精度をもって簡便に形成することができる。また前記基板の製造方法では、前記遮光層を備えた基板を簡便に製造できる。
請求項（抜粋）：
グラフト化炭素材料を構成成分とし、電着塗装により形成された遮光層。
IPC (4件)：
G02B 5/00
, B05D 1/36
, B05D 3/10
, G02B 5/20 101
G02B 5/00 B
, B05D 1/36 A
, B05D 3/10 P
, G02B 5/20 101
