特許

J-GLOBAL ID：200903014079633123

露光装置用のミラー、露光装置用の反射型マスク、露光装置及びパターン形成方法

発明者： 遠藤 政孝 ,  笹子 勝
出願人/特許権者： 松下電器産業株式会社
代理人 (8件)： 前田 弘 ,  小山 廣毅 ,  竹内 宏 ,  嶋田 高久 ,  竹内 祐二 ,  今江 克実 ,  手島 勝 ,  藤田 篤史
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-278489
公開番号（公開出願番号）：特開2004-119541
出願日： 2002年09月25日
公開日（公表日）： 2004年04月15日
要約：

【課題】レジスト膜に対して極紫外線を選択的に照射した後、現像することにより得られるレジストパターンの形状が劣化しないようにする。【解決手段】露光装置は、反射型マスク20と、第1の反射ミラー30a、第2の反射ミラー30b、第3の反射ミラー30c及び第4の反射ミラー30dとを備えている。反射型マスク20は、マスク基板の上に形成された極紫外線を反射する反射層と、反射層の上に選択的に形成され極紫外線を吸収する極紫外線吸収層と、反射層の上における少なくとも極紫外線吸収層が形成されていない領域に形成された赤外線吸収層とを有している。反射ミラーは、ミラー基板の上に形成された極紫外線を反射する反射層と、反射層の上に形成された赤外線を吸収する吸収層とを有している。【選択図】 図4

請求項（抜粋）：

ミラー基板の上に形成されており、モリブデンとシリコンとの多層膜よりなり極紫外線を反射する反射層と、 前記反射層の上に形成されており、赤外線を吸収する化合物よりなる吸収層とを備えていることを特徴とする露光装置用のミラー。

IPC (7件)：

H01L21/027 ,  G02B5/08 ,  G02B5/22 ,  G02B5/28 ,  G02B17/00 ,  G03F1/16 ,  G03F7/20

FI (10件)：

H01L21/30 515D ,  G02B5/08 A ,  G02B5/22 ,  G02B5/28 ,  G02B17/00 Z ,  G03F1/16 A ,  G03F7/20 503 ,  H01L21/30 517 ,  H01L21/30 531A ,  H01L21/30 531M

Fターム (28件)：

2H042DA01 ,  2H042DA10 ,  2H042DA12 ,  2H042DA14 ,  2H042DA16 ,  2H042DB02 ,  2H042DC02 ,  2H042DE00 ,  2H048CA04 ,  2H048CA12 ,  2H048CA27 ,  2H048FA05 ,  2H048FA18 ,  2H048FA24 ,  2H087KA21 ,  2H087NA04 ,  2H087TA02 ,  2H095BA01 ,  2H095BA10 ,  2H095BC24 ,  2H097CA15 ,  2H097FA03 ,  2H097GB00 ,  2H097LA10 ,  5F046BA05 ,  5F046CB02 ,  5F046GA03 ,  5F046GD10