特許
J-GLOBAL ID：200903014083128840
シリコンウエーハの洗浄方法
発明者：
,
,
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
千葉 博史
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-265421
公開番号（公開出願番号）：特開平5-109682
出願日： 1991年09月18日
公開日（公表日）： 1993年04月30日
要約：
【要約】【構成】 シリコンウェーハのアルカリ洗浄工程においてAlイオンまたはFeイオンを添加した洗浄液を使用することにより、被洗浄ウェーハ表面へのNiおよびCuの吸着を抑制する方法。【効果】 Ni,Cuによるウェーハの汚染を簡便な方法により抑制することができる。
請求項（抜粋）：
シリコンウェーハのアルカリ洗浄工程においてAlイオンまたはFeイオンを添加した洗浄液を使用することにより、被洗浄ウェーハ表面へのNiおよびCuの吸着を抑制する方法。
引用特許：
前のページに戻る
