欠陥検査装置

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：青山葆 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-115288
公開番号（公開出願番号）：特開2002-310929
出願日： 2001年04月13日
公開日（公表日）： 2002年10月23日
要約：

【要約】【課題】被検査パターンと基準パターンとの間で、1画素未満の大きさの位置ずれを補正し、擬似欠陥の発生を防止した欠陥検査装置を提供する。【解決手段】被検査パターンと基準パターンとを比較して被検査パターンの欠陥の有無を検査する欠陥検査装置において、基板上にレーザ光を走査させてその反射光を検知することにより被検査パターンのパターンエッジを検出するエッジ検出手段を含み、被検査パターンのパターンエッジがCCDの画素の一辺に略一致するように基板と撮像手段の相対的な位置を調整した後に被検査パターンを撮影する。

請求項（抜粋）：

被検査パターンと基準パターンとを比較して、該被検査パターンの欠陥の有無を検査する欠陥検査装置であって、被検査パターンが形成された基板を載置するステージと、該基板上にレーザ光を走査させてその反射光を検知することにより、該被検査パターンのパターンエッジを検出するエッジ検出手段と、該ステージの上方に配置され該被検査パターンをCCDで撮影する撮像手段と、該撮像手段で得られた該被検査パターンのデータと、基準パターンのデータとを比較して、該被検査パターンの欠陥の有無を検出する検出手段と、該基板と該撮像手段との相対的な位置を調整する調整手段とを含み、該被検査パターンの該パターンエッジが該CCDの画素の一辺に略一致するように、該調整手段で該基板と該撮像手段の相対的な位置を調整した後に、該撮像手段で該被検査パターンを撮影することを特徴とする欠陥検査装置。

IPC (4件)：

G01N 21/956 , G01B 11/00 , G01B 11/30 , H01L 21/66

FI (4件)：

G01N 21/956 A , G01B 11/00 A , G01B 11/30 A , H01L 21/66 J

Fターム (45件)：

2F065AA14 , 2F065AA49 , 2F065CC19 , 2F065DD03 , 2F065FF04 , 2F065FF44 , 2F065GG04 , 2F065JJ05 , 2F065JJ26 , 2F065LL33 , 2F065PP12 , 2F065QQ24 , 2F065QQ39 , 2F065RR08 , 2F065TT02 , 2F065UU04 , 2F065UU05 , 2G051AA51 , 2G051AA56 , 2G051AB02 , 2G051BA01 , 2G051BA10 , 2G051BA11 , 2G051BB01 , 2G051BB11 , 2G051BB20 , 2G051CA03 , 2G051CA07 , 2G051CB01 , 2G051CB05 , 2G051CD07 , 2G051DA08 , 2G051DA09 , 2G051EA11 , 2G051EA12 , 2G051EB01 , 4M106AA01 , 4M106BA05 , 4M106CA39 , 4M106DB04 , 4M106DB08 , 4M106DB14 , 4M106DB19 , 4M106DB21 , 4M106DJ07

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