特許
J-GLOBAL ID:200903014099133755

フォトレジスト用二軸配向ポリエステルフィルム

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 前田 純博
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-073864
公開番号(公開出願番号):特開2002-278074
出願日: 2001年03月15日
公開日(公表日): 2002年09月27日
要約:
【要約】【課題】 凹凸形状を有する基盤に対し優れた基盤追従性を示し、解像度に優れたフォトレジストフィルムの支持体層に用いるポリエステルフィルムを提供する。【解決手段】 エチレンテレフタレートを主たる繰り返し単位とし、融点が210〜250°Cであり、平均粒径が0.001〜0.1μmの一次粒子の凝集体であって平均二次粒径が0.3〜3μm、細孔容積が0.5〜2.0ml/gである多孔質シリカ粒子を10〜500ppm含有する共重合ポリエステルからなるポリエステルフィルムであって、フィルムの面配向係数が0.08〜0.16であり、フィルムの片面または両面に易滑層を設けることを特徴とするフォトレジスト用二軸配向ポリエステルフィルム。
請求項(抜粋):
エチレンテレフタレートを主たる繰り返し単位とし、融点が210〜250°Cであり、平均粒径が0.001〜0.1μmの一次粒子の凝集体であって平均二次粒径が0.3〜3μm、細孔容積が0.5〜2.0ml/gである多孔質シリカ粒子を10〜500ppm含有する共重合ポリエステルからなるポリエステルフィルムであって、フィルムの面配向係数が0.08〜0.16であり、フィルムの片面または両面に易滑層を設けることを特徴とするフォトレジスト用二軸配向ポリエステルフィルム。
IPC (6件):
G03F 7/09 501 ,  B32B 27/36 ,  C08J 7/04 CFD ,  C08K 7/26 ,  C08L 67/02 ,  G03F 7/004 512
FI (6件):
G03F 7/09 501 ,  B32B 27/36 ,  C08J 7/04 CFD Z ,  C08K 7/26 ,  C08L 67/02 ,  G03F 7/004 512
Fターム (44件):
2H025AA02 ,  2H025AA18 ,  2H025AB11 ,  2H025AB15 ,  2H025DA19 ,  2H025DA20 ,  2H025DA40 ,  4F006AA35 ,  4F006AB35 ,  4F006AB43 ,  4F006AB72 ,  4F006BA09 ,  4F006CA08 ,  4F006EA06 ,  4F100AA20A ,  4F100AA20H ,  4F100AK42A ,  4F100AK42K ,  4F100AL01A ,  4F100AR00B ,  4F100AR00C ,  4F100BA03 ,  4F100BA06 ,  4F100BA10B ,  4F100BA10C ,  4F100CA23A ,  4F100DD07 ,  4F100DE01A ,  4F100DE01H ,  4F100EJ38 ,  4F100GB90 ,  4F100JA04A ,  4F100JA20A ,  4F100JK02 ,  4F100JK08 ,  4F100JK16B ,  4F100JK16C ,  4F100JN08 ,  4F100YY00 ,  4F100YY00A ,  4J002CF061 ,  4J002DJ016 ,  4J002FA096 ,  4J002FD176

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