特許

J-GLOBAL ID：200903014120350680

プラズマ処理装置およびその運転方法

発明者： 小島 健一 ,  綾部 時宏 ,  妹尾 武彦 ,  芳賀 喜七 ,  副島 幸雄
出願人/特許権者： 株式会社プラズマシステム
代理人 (1件)： 志賀 正武 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-120114
公開番号（公開出願番号）：特開平8-316286
出願日： 1995年05月18日
公開日（公表日）： 1996年11月29日
要約：

【要約】【目的】 プラズマ処理のスループットを向上させる装置を提供する。【構成】 プラズマ放電により基板Wの表面処理を行う処理室10と、この処理室10を形成する壁部10aに形成された開閉口11R、11Lを通して該処理室10と連通自在なロードロック室20R、20Lと、開閉口11R、11Lを壁部10aの処理室10内面側から開閉する扉体30を備えた開閉手段と、前記処理室10とロードロック室20R、20Lとの間において基板Wの搬送を行う搬送手段とを備えてなる。

請求項（抜粋）：

プラズマ放電により基板の表面処理を行う処理室と、この処理室を形成する壁部に形成された開閉口を通して該処理室と連通自在なロードロック室と、前記開閉口を前記壁部の処理室内面側から開閉する扉体を備えた開閉手段と、前記処理室とロードロック室との間において基板の搬送を行う搬送手段とを備えてなることを特徴とするプラズマ処理装置。

IPC (9件)：

H01L 21/68 ,  B01J 19/08 ,  C23F 4/00 ,  H01L 21/02 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/3065 ,  H01L 21/304 341 ,  H05K 3/08 ,  H05K 3/26

FI (9件)：

H01L 21/68 A ,  B01J 19/08 H ,  C23F 4/00 A ,  H01L 21/02 Z ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/304 341 D ,  H05K 3/08 A ,  H05K 3/26 ,  H01L 21/302 B

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 特開昭63-308921