投影露光装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：半田昌男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-129622
公開番号（公開出願番号）：特開平5-299320
出願日： 1992年04月22日
公開日（公表日）： 1993年11月12日
要約：

【要約】【目的】一つのウエハに対して2回の露光を行う必要がある場合に、二回の露光作業を能率良く行うことができる投影露光装置を提供する。【構成】照明系2a及び2bをそれぞれマスクステージ4a及び4bの上部に、ミラー32a及び32bをそれぞれマスクステージ4a及び4bの下部に配置する。ミラー32a,32bはマスクを通過した光を可動ミラー34に反射する。反射光学系6は、可動ミラー34を回転することにより、マスクステージ4a又はマスクステージ4bを通過する光のうちいずれか一方を選択自在に縮小レンズ群8に反射する。

請求項（抜粋）：

マスクに描いた原画パターンを投影光学系を介してウエハ上のフォトレジストに転写する投影露光装置において、前記マスクを載置するための二つのマスクステージと、該二つのマスクステージと前記投影光学系との間に配置した、前記二つのマスクステージを通過する光のうちいずれか一方を選択自在に前記投影光学系に反射する反射光学系とを設けたことを特徴とする投影露光装置。

IPC (2件)：

H01L 21/027 , G03F 7/20 521

FI (2件)：

H01L 21/30 311 L , H01L 21/30 311 S

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