特許

J-GLOBAL ID：200903014137301730

ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたポジ型レジスト基材

発明者： 公文 哲史 ,  湯川 博人
出願人/特許権者： 東京応化工業株式会社
代理人 (1件)： 曾我 道照 (外7名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-364490
公開番号（公開出願番号）：特開2002-169288
出願日： 2000年11月30日
公開日（公表日）： 2002年06月14日
要約：

【要約】【課題】 本発明は、レジスト膜厚の薄膜化にも対応可能な、耐ドライエッチング性、解像性及びレジストパターン断面形状に優れる化学増幅型のポジ型レジスト組成物を提供することを目的とする。【解決手段】 本発明は、(A)放射線の照射により酸を発生する化合物、及び(B)(b-1)アルカリ可溶性基を有する単位40〜85モル%、(b-2)(イ)酸解離性溶解抑制基と(ロ)耐ドライエッチング性付与基のそれぞれの基を有する単位3〜25モル%、及び(b-3)酸解離性溶解抑制基を有する単位であって(b-1)と(b-2)以外の単位3〜40モル%を含む共重合体からなる酸の作用によりアルカリに対する溶解性が増大する樹脂、を含有してなるポジ型レジスト組成物である。

請求項（抜粋）：

(A)放射線の照射により酸を発生する化合物、及び(B)(b-1)アルカリ可溶性基を有する単位40〜85モル%、(b-2)(イ)酸解離性溶解抑制基と(ロ)耐ドライエッチング性付与基とを有する単位3〜25モル%、及び(b-3)酸解離性溶解抑制基を有する単位であって(b-1)と(b-2)以外の単位3〜40モル%を含む共重合体からなる酸の作用によりアルカリに対する溶解性が増大する樹脂、を含有してなるポジ型レジスト組成物。

IPC (10件)：

G03F 7/039 601 ,  C08F212/14 ,  C08K 3/32 ,  C08K 5/00 ,  C08K 5/09 ,  C08K 5/17 ,  C08K 5/51 ,  C08L101/02 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/11 503

FI (10件)：

G03F 7/039 601 ,  C08F212/14 ,  C08K 3/32 ,  C08K 5/00 ,  C08K 5/09 ,  C08K 5/17 ,  C08K 5/51 ,  C08L101/02 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/11 503

Fターム (64件)：

2H025AA02 ,  2H025AA03 ,  2H025AA09 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE07 ,  2H025BG00 ,  2H025CB13 ,  2H025CB16 ,  2H025CB17 ,  2H025CB41 ,  2H025CB42 ,  2H025CC20 ,  2H025DA34 ,  2H025FA17 ,  4J002BC121 ,  4J002BG041 ,  4J002BG071 ,  4J002DH028 ,  4J002EB116 ,  4J002EF038 ,  4J002EF048 ,  4J002EF068 ,  4J002EF088 ,  4J002EF098 ,  4J002EN027 ,  4J002EN097 ,  4J002ES008 ,  4J002EV216 ,  4J002EV246 ,  4J002EV266 ,  4J002EV296 ,  4J002EW048 ,  4J002EW068 ,  4J002EW128 ,  4J002EW138 ,  4J002FD206 ,  4J002FD207 ,  4J002FD208 ,  4J002GP03 ,  4J100AB07P ,  4J100AB07R ,  4J100AL03Q ,  4J100AL04Q ,  4J100AL08Q ,  4J100AL21Q ,  4J100AL31Q ,  4J100BA03P ,  4J100BA04R ,  4J100BA05Q ,  4J100BA06Q ,  4J100BA06R ,  4J100BA16P ,  4J100BA20Q ,  4J100BA20R ,  4J100BC04Q ,  4J100BC09Q ,  4J100BC53Q ,  4J100BC53R ,  4J100CA05 ,  4J100JA38