特許
J-GLOBAL ID:200903014141732826

ホログラム露光装置、ホログラム露光方法及び共焦点光学装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 浜本 忠 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平8-167571
公開番号(公開出願番号):特開平10-019530
出願日: 1996年06月27日
公開日(公表日): 1998年01月23日
要約:
【要約】【課題】 ホログラムの加熱定着時にホログラム材より発生する化学物質が混入することなくホログラム材の表面側に光学屈折液を充填、封止できるようにする。【解決手段】 ホログラム材16を塗布した光学基板17と、ホログラム材に対して離間し、ホログラム材との間に空間26a,26bを構成するように配置された他の光学基板25とからなると共に、上記空間に光学屈折液を充填、封止し、上記光学基板を通してホログラム材を露光するようにしたホログラム露光装置において、上記空間に流入通路29aと流出通路29bをそれぞれ開閉可能に設け、流入通路に光学屈折液供給回路を接続し、また上記ホログラム材を加熱する加熱手段を設けた構成にした。
請求項(抜粋):
ホログラム材を塗布した光学基板と、ホログラム材に対して離間し、ホログラム材との間に空間を構成するように配置された他の光学基板とからなると共に、上記空間に光学屈折液を充填、封止し、上記光学基板を通してホログラム材を露光するようにしたホログラム露光装置において、上記空間に流入通路と流出通路をそれぞれ開閉可能に設け、流入通路に光学屈折液供給回路を接続し、また上記ホログラム材を加熱する加熱手段を設けたことを特徴とするホログラム露光装置。
IPC (2件):
G01B 11/24 ,  G03H 1/04
FI (2件):
G01B 11/24 D ,  G03H 1/04

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