特許
J-GLOBAL ID:200903014148775202
X線導管光学系による薄膜X線回折装置
発明者:
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出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平5-200085
公開番号(公開出願番号):特開平7-035706
出願日: 1993年07月19日
公開日(公表日): 1995年02月07日
要約:
【要約】【目的】 X線を浅い角度で入射させても、回折X線を十分な強度で測定し得る薄膜X線回折装置を提供する。【構成】 X線を所定の角度で試料表面に入射し、試料表面から出る2次X線を検出器で検出し、試料の構造或いは組成を調べて同定を行うためのX線回折装置において、薄膜試料(2)又は試料表面の一定の面積から出る2次X線(3)のうちから特定な角度の平行な2次X線だけを選択的に検出するX線導管からなる光学系(4)を、試料(2)と検出器(5)の間に配置したことを特徴としている複数本のX線導管を束ねた光学系である。
請求項(抜粋):
X線を所定の角度で試料表面に入射し、試料表面から出る2次X線を検出器で検出し、試料の構造或いは組成を調べて同定を行うためのX線回折装置において、薄膜試料又は試料表面の一定の面積から出る2次X線のうちから特定な角度の平行な2次X線だけを選択的に検出するX線導管からなる光学系を、試料と検出器の間に配置したことを特徴とする薄膜X線回折装置。
引用特許:
審査官引用 (4件)
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特開平4-204399
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特開平1-254849
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特開昭63-187144
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