特許

J-GLOBAL ID：200903014167203104

チオウラシル誘導体

発明者： 木村 幹雄 ,  相澤 將之
出願人/特許権者： 株式会社トクヤマ
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-011713
公開番号（公開出願番号）：特開平10-001473
出願日： 1997年01月24日
公開日（公表日）： 1998年01月06日
要約：

【要約】【課題】 金属特に貴金属に対して充分な初期接着力を有し、かつ接着耐久性、耐水性に優れ、保存安定性の良好な金属表面処理剤に好適に使用しうる新規接着性化合物を提供すること。【解決手段】 下記一般式(1)または(2)【化1】で表されるチオウラシル誘導体。但し、上記式中、R1、R2はそれぞれ水素原子またはアルキル基であり、R1とR2の少なくとも一方は水素原子であり、R3は水素原子、アルキル基またはフェニル基であり、R4は炭素数2〜12の2価の飽和炭化水素基、-CH2CH2OCH2CH2-基、-CH2Si(CH3)2OSi(CH3)2CH2-基または-CH2C6H4CH2-基等であり、Zは、-COO-基、-CH2O-基または-C6H4-CH2O-基であり、R5は水素原子またはメチル基である。

請求項（抜粋）：

下記一般式(1)または(2)【化1】{式中、R1、R2はそれぞれ水素原子またはアルキル基であり、R1とR2の少なくとも一方は水素原子であり、R3は水素原子、アルキル基またはフェニル基であり、R4は炭素数2〜12の2価の飽和炭化水素基、または下記一般式(3)、(4)または(5)【化2】(式中、nは1〜5の整数であり、o及びpはそれぞれ1〜10の整数であり、qは1〜5の整数であり、またr及びsはそれぞれ1〜5の整数である。)で表されるいずれかの基であり、Zは、-COO-基、-CH2O-基または-C6H4-CH2O-基であり、R5は水素原子またはメチル基である。}で示されるチオウラシル誘導体。

IPC (4件)：

C07D239/56 ,  C07F 7/10 ,  C09J 5/02 JGP ,  A61K 6/00

FI (4件)：

C07D239/56 ,  C07F 7/10 S ,  C09J 5/02 JGP ,  A61K 6/00 B