特許

J-GLOBAL ID：200903014170089924

フッ素化Siポリマーおよびこれを含むフォトレジスト

発明者： ジョージ・ジー・バークレー ,  サブベアディ・カナガサバパシー ,  ゲールハルト・ポーラーズ
出願人/特許権者： ローム・アンド・ハース・エレクトロニック・マテリアルズ,エル.エル.シー.
代理人 (3件)： 千田 稔 ,  辻永 和徳 ,  橋本 幸治
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-046813
公開番号（公開出願番号）：特開2004-252467
出願日： 2004年02月23日
公開日（公表日）： 2004年09月09日
要約：

【課題】新規なフッ素化Siポリマー、および前記のポリマーを含むフォトレジストを提供すること。【解決手段】 フッ素原子のSi原子に対する規定された比率を有するSiポリマーを含有するフォトイメージャブル組成物が提供される。本発明の好ましいフォトレジストは、プラズマエッチャントに対して向上した抵抗性を示すことができる。

請求項（抜粋）：

光活性成分およびポリマー成分を含むフォトイメージャブル組成物であって、 前記ポリマー成分が、Si原子およびシラノール基を含むフッ素化ポリマーを含み、 前記ポリマーの、フッ素原子のSi原子に対する比が約3以下である、前記フォトイメージャブル組成物。

IPC (4件)：

G03F7/075 ,  G03F7/038 ,  G03F7/039 ,  H01L21/027

FI (4件)：

G03F7/075 511 ,  G03F7/038 601 ,  G03F7/039 601 ,  H01L21/30 502R

Fターム (12件)：

2H025AB16 ,  2H025AC01 ,  2H025AC04 ,  2H025AD01 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BG00 ,  2H025CB32 ,  2H025CC20 ,  2H025FA03 ,  2H025FA12 ,  2H025FA17

引用特許：

出願人引用 (17件)

• 米国特許仮出願第60/449,787号明細書
  
• 米国特許第5,378,585号明細書
  
• 米国特許出願公開第2003/0207205号明細書
  
• 米国特許第6,593,058号明細書
  
• 米国特許第5,736,536号明細書
  
• 米国特許第5,541,263号明細書
  
• 欧州特許出願公開第96118111.2号明細書(公開番号0783136)
  
• 米国特許第5,366,846号明細書
  
• 米国特許第3,018,262号明細書
  
• 米国特許第4,745,169号明細書
  
• 米国特許第5,338,818号明細書
  
• 米国特許第5,619,396号明細書
  
• 米国特許第5,731,126号明細書
  
• 米国特許第6,296,985号明細書
  
• 米国特許第6,340,734号明細書
  
• 国際公開第02/091083号パンフレット
  
• 米国特許出願公開第2002/0090572号明細書