特許

J-GLOBAL ID：200903014171388690

ハイドロタルサイト系化合物及びその製造方法並びに赤外線吸収剤及び農業用フィルム

発明者： 細川 輝正 ,  高堂 銀優 ,  村上 達夫
出願人/特許権者： 富士化学工業株式会社
代理人 (1件)： 地曳 寛治
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-266236
公開番号（公開出願番号）：特開平8-217912
出願日： 1995年09月20日
公開日（公表日）： 1996年08月27日
要約：

【要約】【課題】 赤外線の吸収能が大きく、農業用フィルムに有効な赤外線吸収剤を提供する。【解決手段】 表面が0.1〜10重量%のアニオン系界面活性剤で被覆され、層間アニオンが縮合ケイ酸イオン及び/又は縮合リン酸イオンで主として占められている式(Mg及び/又はZn)a Al2 (縮合ケイ酸イオン及び/又は縮合リン酸イオン)m-2/n ・nH2 O(式中、aは2≦a≦8、mは1以上の整数、nはn≦4、縮合ケイ酸イオン及び/又は縮合リン酸イオンはSi及び/又はPが2モル以上である。)で表されるハイドロタルサイト系化合物を有効成分とする。層間にケイ酸成分及び/又はリン酸成分を多く導入した構造のため、5〜30μmの波長領域の赤外線を高効率で吸収する。

請求項（抜粋）：

0.1〜10重量%のアニオン界面活性剤により結晶の表面が被覆され、層間アニオンが縮合ケイ酸イオン及び/又は縮合リン酸イオンで主として占められている式(1)で表されるハイドロタルサイト系化合物。 (Mg及び/又はZn)a Al2 (縮合ケイ酸イオン及び/又は縮合リン酸イオン)m-2/m ・bH2 O ...式(1)(式中、aは2≦a≦8、mは1以上の整数、bはb≦4、縮合ケイ酸イオン及び/又は縮合リン酸イオンはSi及び/又はPが2モル以上である。)

IPC (5件)：

C08K 3/26 KAF ,  C08K 9/04 KCP ,  C08L101/00 ,  A01G 9/14 ,  A01G 13/02

FI (5件)：

C08K 3/26 KAF ,  C08K 9/04 KCP ,  C08L101/00 ,  A01G 9/14 S ,  A01G 13/02 D