特許

J-GLOBAL ID：200903014172428190

エポキシ基含有シリコーンレジンおよびその製造方法

発明者： 中西 淳二 ,  猿山 俊夫
出願人/特許権者： 東レ・ダウコーニング・シリコーン株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-112172
公開番号（公開出願番号）：特開平6-298940
出願日： 1993年04月15日
公開日（公表日）： 1994年10月25日
要約：

【要約】【目的】 -90°C〜150°Cの範囲に明確なガラス転移点を有し、かつ三官能シロキサン単位を必須とするエポキシ基含有シリコーンレジンおよび任意の分子量、軟化点および-90°C〜150°Cの範囲に明確なガラス転移点を有し、かつ三官能性シロキサン単位を必須とするエポキシ基含有シリコーンレジンを再現性良く製造することのできるエポキシ基含有シリコーンレジンの製造方法を提供する。【構成】 一般式:(R1SiO3/2)a(R2R3SiO2/2)b(SiO4/2)c{式中、R1、R2およびR3は同種もしくは異種の一価炭化水素基またはエポキシ基含有有機基であり、但し、分子中のケイ素原子結合全有機基に対するエポキシ基含有有機基の含有量は0.1〜40モル%であり、aは正数であり、bは0または正数であり、cは0または正数であり、かつb/aは0〜10の数であり、c/(a+b+c)は0〜0.3の数である。}で示され、かつ-90°C〜150°Cのガラス転移点を有するエポキシ基含有シリコーンレジンおよびその製造方法。

請求項（抜粋）：

一般式:(R1SiO3/2)a(R2R3SiO2/2)b(SiO4/2)c{式中、R1、R2およびR3は同種もしくは異種の一価炭化水素基またはエポキシ基含有有機基であり、但し、分子中のケイ素原子結合全有機基に対するエポキシ基含有有機基の含有量は0.1〜40モル%であり、aは正数であり、bは0または正数であり、cは0または正数であり、かつb/aは0〜10の数であり、c/(a+b+c)は0〜0.3の数である。}で示され、かつ-90°C〜150°Cのガラス転移点を有するエポキシ基含有シリコーンレジン。

IPC (2件)：

C08G 77/38 NUF ,  C08G 77/10 NUC

引用特許：

出願人引用 (5件)

• 特開昭56-145942
  
• 特公昭58-053655
  
• 特公昭62-027095
  
• 特開昭50-003500
  
• 特開平4-202325