特許
J-GLOBAL ID：200903014182225335
パターン基板の欠陥修正方法及び欠陥修正装置並びにパターン基板製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
家入 健
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-361453
公開番号（公開出願番号）：特開2005-095971
出願日： 2003年10月22日
公開日（公表日）： 2005年04月14日
要約：
【課題】 安定して欠陥を修正することができるパターン基板の欠陥修正方法及び欠陥修正装置並びにパターン基板製造方法を提供すること。【解決手段】 本発明にかかる欠陥修正装置は、パターンニングされた基板上の欠陥を修正する欠陥修正装置あって、基板6を載置するステージ7と、短パルスレーザー光源1と、短パルスレーザー光源1からの短パルスレーザー光を成形するビーム成形機構2と、フィルム5を基板の6に近接するためのエア噴出手段13を備えている。レーザー光をフィルム5に照射することにより、フィルム5と欠陥を同時に除去する。さらに、フィルムリール8を移動して、着色層51を有するフィルム5を基板6に近接させて、基板にパターンを転写する。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
パターンニングされた基板上の欠陥を除去する欠陥修正装置であって、
パルスレーザーを発光するパルスレーザー光源と、
前記基板に対向して設けられたフィルムとを備え、
前記パルスレーザー光源からのパルスレーザー光を前記フィルムに照射することにより前記フィルムの一部と前記欠陥をレーザーアブレーションで略同時に除去する欠陥修正装置。
IPC (3件)：
B23K26/00
, G02F1/13
, G02F1/1335
B23K26/00 C
, G02F1/13 505
, G02F1/1335 505
2H048BA02
, 2H048BA43
, 2H048BB02
, 2H048BB42
, 2H088FA14
, 2H088FA30
, 2H088HA12
, 2H088HA14
, 2H088MA20
, 2H091FA02Y
, 2H091FA35Y
, 2H091FB02
, 2H091FB12
, 2H091FC01
, 2H091FC14
, 2H091FC29
, 2H091FD04
, 2H091FD05
, 2H091LA12
, 2H091LA30
, 4E068AC01
, 4E068CA03
, 4E068DA11
