特許
J-GLOBAL ID：200903014184108654
酸化チタン結晶の導電性材料の製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
吉田 研二 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-268866
公開番号（公開出願番号）：特開平10-114598
出願日： 1996年10月09日
公開日（公表日）： 1998年05月06日
要約：
【要約】【課題】 ルチル構造の酸化チタン結晶中に選択的にかつ精度よくリチウム原子をドーピングして導電性領域を形成する。【解決手段】 リチウム原子が透過して結晶内に拡散するのを防止する拡散防止膜14をTiO<SB>2</SB>結晶基板11表面の所定領域に設け、拡散防止膜14を所望の形状にパターニングし、この防止膜14の存在しない拡散防止膜孔15上に露出した基板表面に、リチウム原子および触媒作用を有する貴金属原子を含むドーピング用溶剤を塗布し、得られたTiO<SB>2</SB>結晶試料101を酸化性ガスと還元性ガスを含む雰囲気ガス中で加熱保持する。これにより、ドーピング用溶剤中のリチウム原子が、拡散防止膜孔15領域から結晶内部の<001>結晶軸方向の領域に選択的に拡散してドープされ、この領域にのみ青色または黒かっ色の導電性領域111が形成され、他の領域は透明の絶縁性領域112のままとなる。
請求項（抜粋）：
ルチル構造の酸化チタン結晶の表面の所定領域に、リチウム原子の拡散を防止する拡散防止膜を設ける工程と、拡散防止膜を設けた前記酸化チタン結晶の表面にリチウム原子と貴金属原子を含むドーピング用溶剤を塗布する工程と、前記ドーピング用溶剤の塗布後、前記酸化チタン結晶を酸化性ガスと還元性ガスを含む雰囲気ガス中で加熱処理する工程と、を含み、前記酸化チタン結晶の前記拡散防止膜が設けられていない表面領域から結晶内部の<001>結晶軸方向の領域に、リチウム原子がドープされた導電性領域を選択的に形成することを特徴とする酸化チタン結晶の導電性材料の製造方法。
IPC (3件)：
C30B 29/16
, C30B 31/00
, H01B 1/08
C30B 29/16
, C30B 31/00
, H01B 1/08
