特許
J-GLOBAL ID:200903014208363782

レーザ加工方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 藤本 英介 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-356478
公開番号(公開出願番号):特開2001-170791
出願日: 1999年12月15日
公開日(公表日): 2001年06月26日
要約:
【要約】【課題】 被加工物の炭酸ガスレーザ加工において、被加工物の加工煤付着による品質の低下を防止した高品質のレーザ加工方法を提供すること。【解決手段】 コンタクトマスク法による被加工物の炭酸ガスレーザ加工方法において、被加工物の少なくともマスクの開口部に位置する領域を含む範囲に、粘着層を持つ保護フィルムを貼り付けた後、該被加工物にマスクを積載して接触させ、該マスク上方から炭酸ガスレーザ光を照射して保護フィルムと被加工物を同時にレーザ加工することを特徴とするレーザ加工法。
請求項(抜粋):
コンタクトマスクを用いた被加工物の炭酸ガスレーザ加工方法において、被加工物の少なくともマスク側の開口部に位置する領域を含む範囲に、粘着層を持つ保護フィルムを貼り付けた後、該被加工物にマスクを積載して接触させ、該マスク上方から炭酸ガスレーザ光を照射して保護フィルムと被加工物を同時にレーザ加工することを特徴とするレーザ加工法。
IPC (2件):
B23K 26/18 ,  B23K 26/00 330
FI (2件):
B23K 26/18 ,  B23K 26/00 330
Fターム (7件):
4E068AF01 ,  4E068CD10 ,  4E068CF00 ,  4E068CF01 ,  4E068CF03 ,  4E068DB09 ,  4E068DB10

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