特許
J-GLOBAL ID:200903014210297169

回転露光方法及び装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 日比谷 征彦
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-283442
公開番号(公開出願番号):特開2000-098632
出願日: 1998年09月18日
公開日(公表日): 2000年04月07日
要約:
【要約】【課題】 正確に位置合わせを行って基板上にパターンを同時に露光し、回折効率の高い回折光学素子を高スループットで作製する。【解決手段】 照明光学系8によりレチクル9を照明し、レチクル9上のパターンを投影レンズ10によって感光剤を塗布した基板Sに転写する際にアライメントマークを同時に転写し、レチクルアライメントスコープ11によりレチクル9上のアライメントマークと、投影レンズ10を介して基板S上のアライメントマークか又は基準マーク5を同時に観察して位置合わせを行い、またアライメントスコープ12により、回転ステージ3上の基準マーク5と基板S上のマークを観察して、基板Sのアライメントを行う。
請求項(抜粋):
基板を回転しながらレチクルのパターンを転写する回転露光方法であって、1層目の回転露光時にレチクル上のアライメントマークを基板の周辺部の複数個所に転写する第1工程と、2層目の回転露光時に回転ステージの中心軸と前記1層目に転写したアライメントマークから求めた回転対称パターンの中心軸との位置ずれ量を検出する第2工程と、前記位置ずれ量に基づいて前記基板を位置合わせする第3工程と、前記2層目のレチクル上のアライメントマークに対して前記1層目のアライメントマークを用いて前記基板を位置決めする第4工程と、前記2層目のレチクル上のパターンを前記基板に回転露光して転写する第5工程とから成ることを特徴とする回転露光方法。
IPC (3件):
G03F 9/00 ,  G02B 5/18 ,  G03F 7/20 501
FI (3件):
G03F 9/00 Z ,  G02B 5/18 ,  G03F 7/20 501
Fターム (12件):
2H049AA04 ,  2H049AA33 ,  2H049AA45 ,  2H049AA48 ,  2H049AA56 ,  2H097AA12 ,  2H097KA03 ,  2H097KA12 ,  2H097KA13 ,  2H097KA20 ,  2H097KA28 ,  2H097LA10

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