特許
J-GLOBAL ID：200903014214943723
位置検出装置及びマーク検出方法
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-231591
公開番号（公開出願番号）：特開平10-103919
出願日： 1990年03月20日
公開日（公表日）： 1998年04月24日
要約：
【要約】【目的】 マーク位置計測精度を向上させる。【構成】 ステージ上のマークに2本のレーザビームを所定の入射角で照射する。ステージの位置はレーザ干渉計によって計測される。ステージの位置を計測しながらステージ上のマークの位置計測を行うとき、複数回計測を実行して空気ゆらぎによる計測誤差を低減する。
請求項（抜粋）：
基板上に形成されたマークを光学的に検出する検出手段と、前記基板の位置を計測するレーザ干渉計とを有し、前記検出手段の検出結果と前記レーザ干渉計からの計測値とに基づいて前記基板の位置を検出する位置検出装置において、位置検出すべき1つのマークに対して、前記検出手段による検出及び前記レーザ干渉計による計測を複数回実行する制御手段と;前記複数回の検出及び計測結果に基づいて、前記基板の位置を算出する演算手段とを備えたことを特徴とする位置検出装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G01B 11/00 G
, H01L 21/30 541 K
