特許

J-GLOBAL ID：200903014215608960

磁気記録媒体基板の製造方法と装置

発明者： 金子 英雄 ,  中里 泰章 ,  青木 豊文 ,  黒柳 逸夫
出願人/特許権者： 信越化学工業株式会社 ,  長野電子工業株式会社 ,  信越半導体株式会社
代理人 (1件)： 舘野 公一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-253773
公開番号（公開出願番号）：特開平6-076282
出願日： 1992年08月28日
公開日（公表日）： 1994年03月18日
要約：

【要約】【目的】 磁気ディスク用の基板のような磁気記録媒体基板を高い平面度,同心度を保持し、かつバラつきなく高効率に製作する製造方法と装置を提供する。【構成】 大口径(直径d2 )の単結晶シリコン棒1からスライス速度V2 >V1 の高速でスライスしてウェーハ2を作り、これから中心孔4を有する小口径(直径d1 )の複数枚のドーナツ状円板3を切り出し、仕上げ加工して完成品が製作される。切り出しは、切り出しされる円板3の中心孔4と外周の縁部27,28にレーザ光を当て、中心孔4を中心にウェーハ2を回転して行う。また、切り出しされる円板3の切り出し位置への位置決めはウェーハ2を所定の割り出し角度位置に回動して行う。ここで、V1 は小口径(直径d1 )の単結晶シリコン棒から所定値以下の反りを生じさせるに必要なスライス速度を表わす。

請求項（抜粋）：

磁気記録媒体基板(以下、基板と略称する)として使用される単結晶シリコン製の基板の製造方法において、同基板の口径より十分大きい口径を有する単結晶シリコンウェーハ(以下、ウェーハと略称する)から、複数枚の基板を切り出すことを特徴とする磁気記録媒体基板の製造方法。

IPC (3件)：

G11B 5/84 ,  B23K 26/00 320 ,  H01L 21/304 311