特許
J-GLOBAL ID：200903014217565398
電解めっき用めっき浴及び複合めっき用めっき浴並びにこれらの製造方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
坂本 光雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-234101
公開番号（公開出願番号）：特開2004-076031
出願日： 2002年08月09日
公開日（公表日）： 2004年03月11日
要約：
【課題】還元電位の低い金属であってもめっき皮膜を形成でき且つナノオーダーの不活性微粒子であっても均一に分散させて複合めっきを行えるようにする。【解決手段】ジメチルスルホン(ステップS1)に金属無水塩を混合し(ステップS2)た後、該混合液を昇温して金属無水塩を溶融させて電解浴を形成させ(ステップS3)、該電解浴にナノオーダーの不活性微粒子を添加して混合、撹拌(ステップS4)して複合めっき用めっき浴とする。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
ジメチルスルホンにめっき皮膜を形成させるべき金属の無水の塩を混合した後、該混合物を加熱して上記金属無水塩を溶融させてなることを特徴とする電解めっき用めっき浴。
IPC (2件)：
FI (4件)：
C25D3/66
, C25D15/02 A
, C25D15/02 F
, C25D15/02 G
