特許
J-GLOBAL ID:200903014218343984

試料中の元素分布測定と組成分析方法およびその装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 小林 英一
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平7-014573
公開番号(公開出願番号):特開平8-201317
出願日: 1995年01月31日
公開日(公表日): 1996年08月09日
要約:
【要約】【目的】 試料中の元素分布測定と組成分析方法およびその装置を提供する。【構成】 低加速度電子線を試料表面に照射し、二次電子像を観察しながら同時に試料表面に生じる後方散乱電子を検出してその輝度分布を測定し、あらかじめ求めた組成既知試料による後方散乱電子強度を用いて校正することにより、試料中元素の分布測定および組成を分析することにより、自動的に試料中元素の同定および分布解析、定量分析を行うことを可能にする。
請求項(抜粋):
低加速度電子線を試料表面に照射し、二次電子像を観察しながら同時に試料表面に生じる後方散乱電子を検出してその輝度分布を測定し、あらかじめ求めた組成既知試料による後方散乱電子強度を用いて校正することにより、試料中元素の分布測定および組成を分析することを特徴とする試料中の元素分布測定と組成分析方法。
IPC (3件):
G01N 23/203 ,  G01N 23/225 ,  H01J 37/256
引用特許:
審査官引用 (3件)
  • 特開昭52-117192
  • 特開平4-067550
  • 特開昭53-138675

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