パターン形成用材料

発明者： , , , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：佐藤一雄 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-347042
公開番号（公開出願番号）：特開平6-194834
出願日： 1992年12月25日
公開日（公表日）： 1994年07月15日
要約：

【要約】【目的】露光裕度が広く、露光量変化に対してパターン寸法変化の少ないパターン形成材料を提供すること。【構成】 (A)活性線の照射により酸を生成する化合物、(B)活性線照射により塩基を生成もしくは塩基性の増大する化合物、(C)酸により開裂しうる結合を少なくとも1つ有する化合物、および/または(D)水に不溶であるが、アルカリ水溶液には可溶である化合物、を含むことを特徴とする、パターン形成用材料。

請求項（抜粋）：

(A)活性線の照射により酸を生成する化合物、(B)活性線照射により塩基を生成もしくは塩基性の増大する化合物、(C)酸により開裂しうる結合を少なくとも1つ有する化合物、および/または(D)水に不溶であるが、アルカリ水溶液には可溶である化合物、を含むことを特徴とする、パターン形成用材料。

IPC (6件)：

G03F 7/028 , G03C 1/685 , G03F 7/004 503 , G03F 7/038 505 , G03F 7/039 501 , H01L 21/027

引用特許：

審査官引用 (5件)

特開平2-144538
特開平3-153257
特開平4-162040

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