特許

J-GLOBAL ID：200903014230264950

微細シリカの精製法

発明者： 西峯 正進 ,  富沢 良夫 ,  上原 秀和 ,  白砂 潔 ,  上野 進
出願人/特許権者： 信越化学工業株式会社
代理人 (1件)： 小島 隆司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-288998
公開番号（公開出願番号）：特開平8-119620
出願日： 1994年10月27日
公開日（公表日）： 1996年05月14日
要約：

【要約】【構成】 微細シリカと、空気と、水蒸気とを空気1に対し水蒸気を0.5以上の容量比となるように流動層形成用管の下部から上部に向けて連続的に導入し、この管内にガス線速が1〜10cm/秒で温度が250〜600°Cの流動層を形成し、この流動層内で上記微細シリカに存在するハロゲン化物を水蒸気により脱離すると共に、このハロゲン化物が脱離された微細シリカを上記管の上部から取り出すことを特徴とする微細シリカの精製法。【効果】 本発明によれば、簡便な装置を用い、低エネルギーコストでハロゲン化物が確実に脱離した精製微細シリカを容易に得ることができる。また、本発明による脱酸方法によれば、脱酸と同時に上部排出口に到達しない粗粒子と、排出管より流出する微細粒子が分離されるという利点も有する。

請求項（抜粋）：

微細シリカと、空気と、水蒸気とを空気1に対し水蒸気を0.5以上の容量比となるように流動層形成用管の下部から上部に向けて連続的に導入し、この管内にガス線速が1〜10cm/秒で温度が250〜600°Cの流動層を形成し、この流動層内で上記微細シリカに存在するハロゲン化物を水蒸気により脱離すると共に、このハロゲン化物が脱離された微細シリカを上記管の上部から取り出すことを特徴とする微細シリカの精製法。

IPC (2件)：

C01B 33/18 ,  B01J 8/24

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 特許第1003957号
  
• 特開昭58-181715
  
• 特許第1003957号
  
• 特開昭58-181715