特許
J-GLOBAL ID：200903014264127196
プラズマ発生装置およびイオンプレーティング装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
井島 藤治 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-126338
公開番号（公開出願番号）：特開平8-319562
出願日： 1995年05月25日
公開日（公表日）： 1996年12月03日
要約：
【要約】【目的】 プラズマ電流を安定にすることができるプラズマ発生装置と、そのプラズマ発生装置を用いたイオンプレーティング装置を実現する。【構成】 アノード15の外側に、リング状のターゲット電極20を設け、アノード15の真空容器1内部に面する部分に絶縁物質で形成されたリング状のカバー21を設ける。ターゲット電極20は抵抗R4を介して放電電源12に接続されている。プラズマ発生装置4から真空容器1内に放出されたプラズマ電流(電子)は、アノード電位より高いターゲット電極20に向かいターゲット電極20に照射される。また、アノード15やシールド電極16の真空容器1内に対向する面は、絶縁製物質で形成されたカバー21によって覆われているので、真空容器1内の蒸発物質がアノード15やシールド電極16に付着することは防止される。
請求項（抜粋）：
放電室と、放電室内に配置されたカソードと、放電室の端部に配置されたリング状のアノードと、カソードとアノードとの間に放電電圧を印加するための放電電源と、放電室内に放電ガスを供給するための手段とを備えており、放電室内で形成されたプラズマ中の電子をリング状のアノードの内側の開口を通して放電室外の真空容器中に照射させるように構成したプラズマ発生装置において、アノードの外側にアノードの電位より高い正の電位の補助電極を設けたことを特徴とするプラズマ発生装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
C23C 14/32 Z
, H05H 1/46 A
