特許

J-GLOBAL ID：200903014275200804

ジスアゾ顔料、その製造方法及び印刷インキ組成物

発明者： 佐藤 昭生
出願人/特許権者： 東洋インキ製造株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-300189
公開番号（公開出願番号）：特開2003-105222
出願日： 2001年09月28日
公開日（公表日）： 2003年04月09日
要約：

【要約】【課題】従来のジスアゾ顔料に比較して短時間でフラッシングが完了でき、且つフラッシング排水が清澄であり、さらに透明で且つ濃度に優れた印刷インキを提供する。【解決課題】3,3’-ジクロロベンジジンのテトラゾ化物とアセトアセトアニリド系化合物とをカップリングしてジスアゾ顔料の粒子を生成し、該顔料表面をロジン酸および水酸化アルミニウムで表面処理してなることを特徴とするジスアゾ顔料。このジスアゾ顔料の顔料ウェットケーキを印刷インキビヒクルによりフラッシングして印刷インキが得られる。

請求項（抜粋）：

3,3’-ジクロロベンジジンのテトラゾ化物とアセトアセトアニリド系化合物とをカップリングしてジスアゾ顔料の粒子を生成し、該顔料粒子表面をロジン酸および水酸化アルミニウムで表面処理してなることを特徴とするジスアゾ顔料。

IPC (5件)：

C09B 67/08 ,  C09B 35/20 ,  C09B 67/14 ,  C09D 11/02 ,  C09D 17/00

FI (6件)：

C09B 67/08 C ,  C09B 67/08 B ,  C09B 35/20 ,  C09B 67/14 ,  C09D 11/02 ,  C09D 17/00

Fターム (29件)：

4J037AA30 ,  4J037CA05 ,  4J037CA08 ,  4J037CA09 ,  4J037CA12 ,  4J037CB09 ,  4J037CC01 ,  4J037DD23 ,  4J037EE02 ,  4J037EE28 ,  4J037EE33 ,  4J037EE43 ,  4J037EE46 ,  4J039AB04 ,  4J039AB08 ,  4J039AD18 ,  4J039AE02 ,  4J039AE06 ,  4J039AF01 ,  4J039BA14 ,  4J039BA32 ,  4J039BC02 ,  4J039BC36 ,  4J039BC41 ,  4J039BE01 ,  4J039BE12 ,  4J039EA33 ,  4J039EA48 ,  4J039GA02

引用特許：

審査官引用 (8件)

• 特開平1-146962
  
• 特開昭63-072762
  
• 特開平3-043462
  
• 特開昭63-120764
  
• 特許第3885503号
  
• 特開昭63-178169
  
• ジスアゾ顔料組成物、その製造方法および顔料の改良方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-116718   出願人：大日本インキ化学工業株式会社
• ロジン処理ジスアゾ顔料、その製造方法およびその用途
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-077078   出願人：東洋インキ製造株式会社

引用文献：

審査官引用 (1件)

• 色材工学ハンドブック, 19891125, 426頁