特許

J-GLOBAL ID：200903014279232450

半導体発光素子の製造方法

発明者： 小出 典克
出願人/特許権者： 豊田合成株式会社
代理人 (1件)： 小西 富雅
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-209270
公開番号（公開出願番号）：特開平10-041544
出願日： 1996年07月19日
公開日（公表日）： 1998年02月13日
要約：

【要約】【課題】 GaN系半導体層内にアンモニアガスから分解した水素が取り込まれないようにする。【解決手段】 アンモニアガスと有機金属化合物ガスを熱分解反応させ、基板の上に半導体層を成長させることにより半導体発光素子を製造する方法において、アンモニアガスを基板へ供給する前に、該アンモニアガスを熱分解し、該分解したガスをパラジウム系金属等の水素吸蔵材料に接触させる。これにより、アンモニアから分解した水素は水素吸蔵材料に吸蔵除去され、GaN系半導体層内に当該水素が取り込まれなくなる。

請求項（抜粋）：

アンモニアガスと有機金属化合物ガスを熱分解反応させ、基板の上に半導体層を成長させることにより半導体発光素子を製造する方法において、前記アンモニアガスを前記基板へ供給する前に、該アンモニアガスを分解し、該分解したガスを水素吸蔵材料に接触させることを特徴とする半導体発光素子の製造方法。