特許

J-GLOBAL ID：200903014285019830

アンモニア性窒素含有排水処理装置

発明者： 岩井 富雄 ,  楊 敏
出願人/特許権者： オルガノ株式会社
代理人 (1件)： 畑中 芳実 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-142311
公開番号（公開出願番号）：特開平7-328663
出願日： 1994年06月01日
公開日（公表日）： 1995年12月19日
要約：

【要約】【目的】 臭素イオン存在下でのオゾン添加によるアンモニア性窒素含有排水の処理において、反応槽からの排オゾン含有ガス中の排オゾン濃度低下、排オゾン処理装置の小型化あるいは負担軽減、排オゾンの有効利用、排水へのオゾン添加量削減、排オゾン含有ガスに含まれるBr-やBr2の放出防止及び有効利用、排水への臭素イオン添加量削減を達成する。【構成】 排オゾン含有ガスの放出前かつ臭素イオン含有水のアンモニア性窒素含有排水への添加前に排オゾン含有ガスと臭素イオン含有水とを接触させる気液接触手段を設ける。また、上記気液接触手段の後段に、この気液接触手段通過後の排オゾン含有ガスとアンモニア性窒素含有排水とを接触させる気液接触手段を設ける。

請求項（抜粋）：

反応槽と、反応槽にアンモニア性窒素含有排水を導入する原水導入機構と、反応槽中のアンモニア性窒素含有排水にオゾン含有ガスを添加するオゾン添加機構と、アンモニア性窒素含有排水に臭素イオン含有水を添加する臭素イオン添加機構と、反応槽内の排オゾン含有ガスを大気中に放出する排オゾン含有ガス排出機構とを具備する排水処理装置において、大気放出前の排オゾン含有ガスを、アンモニア性窒素含有排水への添加前の臭素イオン含有水と接触させる気液接触手段を設けたことを特徴とするアンモニア性窒素含有排水処理装置。

IPC (2件)：

C02F 1/78 ZAB ,  C02F 1/76 ZAB

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 特開平4-066190
  
• 特開平1-288392
  
• 特開平1-284392
  
• 特開昭57-190186