特許
J-GLOBAL ID：200903014287260683
光導波路の製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
絹谷 信雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-248965
公開番号（公開出願番号）：特開2001-074963
出願日： 1999年09月02日
公開日（公表日）： 2001年03月23日
要約：
【要約】【課題】 反り補正をせずに均一な厚さで表面を平坦化できると共に反りの増大等の原因となる研磨しろを必要とせずに平坦化できる光導波路の製造方法を提供する。【解決手段】 コア2及び該コア2を覆うクラッド1,3を有する光導波路のクラッド3の表面に生じた凹凸10を平坦化する光導波路の製造方法において、上記クラッド3の表面に、硬化性を有する液体4aを塗布し、その液体4aを硬化させて平坦化した後、上記クラッド3の凹凸10の凹面が露出するようにドライエッチングして平坦化する。
請求項（抜粋）：
コア及び該コアを覆うクラッドを有する光導波路の該クラッドの表面に生じた凹凸を平坦化する光導波路の製造方法において、上記クラッドの表面に、硬化性を有する液体を塗布し、該液体を硬化させて平坦化した後、上記クラッドの凹凸の凹面が露出するようにドライエッチングして平坦化することを特徴とする光導波路の製造方法。
Fターム (4件)：
2H047KA04
, 2H047PA21
, 2H047PA24
, 2H047TA00
