特許
J-GLOBAL ID：200903014290698894
曲線発生方法及びその装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
吉田 精孝
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-149453
公開番号（公開出願番号）：特開平5-342362
出願日： 1992年06月09日
公開日（公表日）： 1993年12月24日
要約：
【要約】【目的】 少量で且つ編集が容易な円弧または線分のデータを用い、簡単な操作により意図した通りの曲線を発生させ得る曲線発生方法及びその装置を提供する。【構成】 座標入力デバイスより入力される、筆跡を構成する多数の点に対応した座標データ列を読取り(ステップsp1)、該座標データ列から筆跡の始点または1つ前の有効点からの距離が所定値以上の点を有効点として順次、抽出し(ステップsp2)、さらに前記抽出した有効点間の角度から採用点を抽出し(ステップsp3)、書き出しの円弧は筆跡の始点を含む3つの採用点が揃った時点(ステップsp4,5)で、これらから作成し(ステップsp6)、以後、有効点を抽出し、さらに採用点を抽出する度に、書き出しの円弧もしくは1つ前の円弧の終点に対応する採用点の次の採用点を通り、書き出しの円弧もしくは1つ前の円弧に接する円弧を順次、作成する(ステップsp7)。
請求項（抜粋）：
座標入力デバイスより入力される、筆跡を構成する多数の点に対応した座標データ列から、筆跡の始点または1つ前の有効点からの距離が所定値以上の点を有効点として順次、抽出し、前記抽出した有効点間の角度から採用点を抽出し、筆跡の始点を含む3つの採用点から書き出しの円弧を作成し、書き出しの円弧もしくは1つ前の円弧の終点に対応する採用点の次の採用点を通り、書き出しの円弧もしくは1つ前の円弧に接する円弧を順次、作成するようになしたことを特徴とする曲線発生方法。
IPC (3件)：
G06F 15/72 355
, G06F 3/153 320
, G09G 5/20
