特許

J-GLOBAL ID：200903014291969310

フォトマスク用サファイヤ基板の製造方法

発明者： 菊地 永一 ,  服部 修
出願人/特許権者： 有限会社遠野精器
代理人 (1件)： 林 敬之助 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-233877
公開番号（公開出願番号）：特開平8-095233
出願日： 1994年09月28日
公開日（公表日）： 1996年04月12日
要約：

【要約】【目的】 機械的及び化学的耐久性の高いサファイヤガラスフォトマスク用サファイヤ基板の製造方法を得る。【構成】 アルミナ(Al2 O3 )からサファイヤの単結晶を作成する(工程101)。作成されたサファイヤの単結晶を、必要なフォトマスクの大きさと厚みに合わせて、サファイヤの四角形の板に切断加工する(工程102)。サファイヤの四角形の板を、外周整形機を用いて外周仕上げを行う(工程103)。外周整形の終わった四角形の板の表面の研磨を行なう。研磨方法は両面同時及び片面づつ行う方法が取られる(工程104)。表面研磨の終わったサファイヤの四角形の板を洗浄する(工程105)。

請求項（抜粋）：

サファイヤの原石(41)を用意する工程(工程101)と、サファイヤの原石(41)を四角形の板(43)に加工する工程(工程102)と、サファイヤの四角形の板(43)の外周を仕上げる工程(工程103)と、外周を仕上げたサファイヤの四角形の板(44)の2つの表面を磨く工程(工程104)と、表面を磨いたサファイヤの四角形の板(45)を洗浄する工程(工程105)と、を有する事を特徴とするフォトマスク用サファイヤ基板の製造方法。

IPC (2件)：

G03F 1/14 ,  C30B 29/20

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開平3-171138
  
• 特開昭54-052472
  
• 特開昭55-020262