特許
J-GLOBAL ID:200903014312368028

光導波路の形成方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 三好 秀和 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平4-051643
公開番号(公開出願番号):特開平5-249335
出願日: 1992年03月10日
公開日(公表日): 1993年09月28日
要約:
【要約】【目的】 XカットLN結晶基板上にTiの光導波路を拡散形成するに当たって、偏光に依存しない良質な長波長帯(1.3μm)の光導波路を形成する。【構成】 この発明の光導波路の形成方法は、LN結晶基板上にZ軸に沿ってTi拡散光導波路を形成するに当たって、Ti拡散温度を1020°Cよりも高い温度とし、拡散時間を6時間よりも長い時間とすることを特徴とする。また、上記の光導波路の形成方法において、Ti膜厚dと光導波路パターン幅wとを、350A≦d≦450A、かつ、5μm≦w≦8μmの条件にする。
請求項(抜粋):
LiNbO3 (LN)結晶基板上にZ軸に沿ってTi拡散光導波路を形成するに当たって、Ti拡散温度を1020°Cよりも高い温度とし、拡散時間を6時間よりも長い時間とすることを特徴とする光導波路の形成方法。
引用特許:
審査官引用 (4件)
  • 特開昭63-235914
  • 特開昭61-160704
  • 特開平1-179001
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