特許
J-GLOBAL ID：200903014315038770
光磁気記録媒体製造装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
高野 明近 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-351640
公開番号（公開出願番号）：特開平5-166236
出願日： 1991年12月11日
公開日（公表日）： 1993年07月02日
要約：
【要約】【目的】 ディスクの内周から外周にかけて記録に必要とするレーザ光強度の変化の少ない光磁気ディスクを得ること。【構成】 一対の支持体兼用電極4はその間に抵抗加熱式の蒸発源5を支持している。基板ホルダ2は、ガイドレール10に案内されて、製造室内において一定速度で連続的に移送され、蒸発源5の直上を通過するようになされており、前記基板ホルダ2の本体の下方側に、前記基板1を保持した回転自在なターンテーブル13および膜厚補正用マスク7を備えている。膜厚均一化用マスク11は支持体9により支持され、膜厚補正用マスク7よりも蒸発源側に配置され、回転導入機12により面内で自転させられる。これにより、基板及び膜厚補正用マスクが必ずしも蒸発源の上に配置されていなくても膜厚分布を所定の分布とすることが可能となり、複数の基板に同時に成膜することが可能となる。
請求項（抜粋）：
蒸発源と、複数の円板状の基板を保持し、かつ前記蒸発源と前記円板状の基板の間に、膜厚を基板の径方向に連続的あるいは段階的に変化させ、その際に外周側の方が内周側よりも膜厚が小さくあるいは大きくなるように開口部を設定した円板状の膜厚補正用マスクを各基板毎に配置した基板ホルダと、前記膜厚補正用マスクよりも蒸発源側に円板状の膜厚均一化用マスクを配置し、該膜厚均一化用マスクを面内で自転させかつ前記蒸発源が配設された領域において、前記基板あるいは膜厚補正用マスクの少なくとも一方を面内で自転させつつ前記基板ホルダを一定速度で連続的に移送しながら真空蒸着することを特徴とする光磁気記録媒体製造装置。
IPC (2件)：
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