荷電粒子ビーム描画装置

発明者： , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：小川勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-045819
公開番号（公開出願番号）：特開平9-246135
出願日： 1996年03月04日
公開日（公表日）： 1997年09月19日
要約：

【要約】【課題】荷電粒子ビームを用いた描画装置において、ビームドリフトは描画精度を低下させる大きな要因である。このビームドリフトを高速に計測し、補正することにより描画装置の高速・高精度化を図る。【解決手段】最大偏向領域105内に標準マークに相当するビームドリフト測定用マーク102を設置し、ビームドリフトの測定に使用する。【効果】ビーム位置ドリフトを測定する際にステージ移動を必要とせず、高速なビームドリフト測定が可能になる。また、従来に比べて頻繁にビームドリフトを補正することが可能になる。したがって、描画装置の高速、高精度化が達成される。

請求項（抜粋）：

荷電粒子ビームにより試料室内の試料台上に置かれた試料に所定のパタ-ンを対物レンズを介して描画する描画装置であって、上記試料の上記対物レンズ側で且つ荷電粒子の偏向領域に基準マ-ク手段を設けたことを特徴とする荷電粒子ビーム描画装置。

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