特許
J-GLOBAL ID：200903014325268790
磁化測定方法及び装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小川 勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-032141
公開番号（公開出願番号）：特開平7-244144
出願日： 1994年03月02日
公開日（公表日）： 1995年09月19日
要約：
【要約】【目的】 強磁性体基板上に形成された非磁性薄膜表面の磁化測定方法及び装置を提供すること。【構成】 プローブ電子線照射用電子銃1より、基板2上に蒸着源6によって形成される試料薄膜に電子線を照射する。試料薄膜から放出される2次電子を2次電子収集電極4で検出し、スピン検出器5で検出する。基板2上に形成される膜厚は膜厚計7で計測される。2次電子偏極度の測定データから強磁性体基板の影響を除去することにより、非磁性薄膜表面の磁化情報を得る。
請求項（抜粋）：
強磁性体基板上に非磁性薄膜を形成しながら同時に電子線を照射し、この時放出される2次電子の偏極度を測定することによって該非磁性薄膜表面の磁化の該非磁性薄膜の膜厚依存性を検出することを特徴とする磁化測定方法。
IPC (3件)：
G01R 33/12
, G01N 23/225
, G01R 33/02
