特許

J-GLOBAL ID：200903014334193809

投影露光方法及び投影露光装置

発明者： 小林 直行
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (1件)： 森岡 正樹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-065299
公開番号（公開出願番号）：特開平10-247617
出願日： 1997年03月03日
公開日（公表日）： 1998年09月14日
要約：

【要約】【課題】本発明は、投影露光方法および装置に関し、露光光の吸収によるレチクルの膨張をリアルタイムで測定し補正しながら露光動作を行なうことができる投影露光方法および装置を提供することを目的とする。【解決手段】複数のレチクルマーク14が形成されたレチクル3を照明する照明領域12を有する照明系1と、レチクル3を照明領域12に対して走査させるレチクルステージ4と、露光用パターン13を、感光基板7上の照明領域12に対応した露光領域内に投影する投影光学系5と、レチクルステージ4と同期して感光基板7を露光領域に対して走査させる基板ステージ8と、照明領域12外に位置し、複数のレチクルマーク14の位置を投影露光中に測定して、レチクル3の熱膨張による変動量を計測する計測手段11と、変動量に基づいて、露光用パターン13の投影像の位置を補正する補正手段15とを備えるように構成する。

請求項（抜粋）：

複数のレチクルアライメントマークが形成されたレチクル上の露光用パターンを光源からの光束により照明し、前記露光用パターンを投影光学系を介して感光基板上に投影露光する投影露光方法において、前記複数のレチクルアライメントマークの位置を前記投影露光中に測定して、前記照明に起因した前記レチクルの熱膨張による変動量を計測し、前記変動量に基づいて、前記露光用パターンの投影像の位置を補正することを特徴とする投影露光方法。

IPC (4件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521 ,  G03F 9/00 ,  H01L 21/30

FI (5件)：

H01L 21/30 516 A ,  G03F 7/20 521 ,  G03F 9/00 H ,  H01L 21/30 ,  H01L 21/30 518