特許
J-GLOBAL ID：200903014337446686
粒子のビルドアップに対して感受性が低いターボ分子真空ポンプ
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
竹内 澄夫 (外1名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-527702
公開番号（公開出願番号）：特表2000-506952
出願日： 1997年11月13日
公開日（公表日）： 2000年06月06日
要約：
【要約】分子ドラッグ.コンプレッサが,入口および出口(208)を有する接線方向流のチャネル(206)を画成するステータ(204)およびロータディスク(200)を含む。静止バッフル(210)が接線方向流のチャネル(206)内で出口(208)の近傍に位置する。バッフル(210)は間隙(230)だけロータディスク(200)から離れている。ロータディスク(200)に面するバッフル(210)の面(212)が間隙(230)を画成するピーク(220),および粒子の集積のための,ピーク(220)の間にある谷部(222)を含む表面不規則性を含む。分子ドラッグ・コンプレッサは好適に,軸線方向のターボ分子コンプレッサと分子ドラッグ・コンプレッサとを含む高真空ポンプに利用される。分子ドラッグ・コンプレッサへの粒子の集積の効果を制限する付加的な特徴が開示される。
請求項（抜粋）：
1.分子ドラッグ・コンプレッサであって, 軸線のまわりを回転する駆動シャフトに連結されるロータディスクと, 接線方向流のチャネル,該接線方向流のチャネルへの入口,および接線方向流のチャネルからの出口を画成する,前記ロータディスクのまわりに配置されるステータと, 前記接線方向流のチャネル内で,前記出口の近傍に位置する静止バッフルと,を含み,前記バッフルおよび前記ロータディスクが間に間隙を有し,前記ロータディスクに面する前記バッフルの面が,前記間隙を画成するピークおよび粒子集積のための,前記ピークの間の谷部を含む,表面不規則性を有する,ところの分子ドラッグ・コンプレッサ。2.前記ピークが間隔をあけた隆起部からなる,請求項1に記載の分子ドラッグ・コンプレッサ。3.前記隆起部と該隆起部との間の前記谷部が三角状の溝からなる,請求項2に記載の分子ドラッグ・コンプレッサ。4.前記隆起部が,前記ロータディスクから実質的に一様に離れる鋭い縁をもつ,請求項2に記載の分子ドラッグ・コンプレッサ。5.前記間隔があいた隆起部が前記ロータディスクの回転方向に実質的に垂直に配置される,請求項2に記載の分子ドラッグ・コンプレッサ。6.前記隆起部が,前記間隙の寸法の約5〜25倍の範囲にある距離だけ離されている,請求項2に記載の分子ドラッグ・コンプレッサ。7.前記谷部が,前記隆起部の間の間隔の約0.5〜2倍の範囲にある深さを有する,請求項2に記載の分子ドラッグ・コンプレッサ。8.前記出口が,ガス流の上流において,前記静止バッフルから離れ,これにより前記出口と前記粒子集積用のバッフルとの間に空間を画成する,請求項1に記載の分子ドラッグ・コンプレッサ。9.前記ステータおよび前記静止バッフルが,前記接線方向流のチャネルと前記出口との間にスムーズに湾曲した遷移部を与えるように形状付けられ,これにより前記接線方向流のチャネルから前記出口への層流が形成される,請求項1に記載の分子ドラッグ・コンプレッサ。10.前記接線方向流のチャネルが,粒子の集積を促進する表面の不規則性をもつ少なくとも一つの面を含む,請求項1に記載の分子ドラッグ・コンプレッサ。11.一体の高真空ポンプであって, 軸線を有する外側ポンプハウジングと, 該ハウジング内に配置される軸線方向のターボ分子コンプレッサと, 前記ハウジング内に配置される分子ドラッグ・コンプレッサと, 前記ターボ分子コンプレッサから分子ドラッグ・コンプレッサへのガス流から粒子を除去するために,前記ハウジング内で,前記ターボ分子コンプレッサと前記分子ドラッグ・コンプレッサとの間に配置される粒子セパレータと,を含み,前記ターボ分子コンプレッサと前記分子ドラッグ・コンプレッサのそれぞれが,前記軸線にそって整列した単一のモータ駆動シャフトに連結される回転部分を有する,ところの高真空ポンプ。12.一体の高真空ポンプであって, 軸線を有する外側ポンプハウジングと, 該ハウジング内に配置される軸線方向のターボ分子コンプレッサと, 入口と出口をそれぞれ有する第一および第二のステージを有し,前記ハウジング内に配置される分子ドラッグ・コンプレッサと, 前記第一のステージの出口と前記第二のステージの入口との間の導管に連結される粒子フィルターと,を有し,前記ターボ分子コンプレッサと前記分子ドラッグ・コンプレッサのそれぞれが,前記軸線にそって整列した単一のモータ駆動シャフトに連結される回転部分を有する,ところの高真空ポンプ。13.前記粒子フィルターが前記ポンプハウジングの外側に位置する,請求項12に記載の高真空ポンプ。14.一体の高真空ポンプであって, 軸線を有する外側ポンプハウジングと, 該ハウジング内に配置される軸線方向のターボ分子コンプレッサと, 前記ハウジング内に配置される分子ドラッグ・コンプレッサと,を含み,前記ターボ分子コンプレッサと前記分子ドラッグ・コンプレッサのそれぞれが,前記軸線にそって整列した単一のモータ駆動シャフトに連結される回転部分を有し,前記分子ドラッグ・コンプレッサが少なくとも一つの分子ドラッグ・ステージを含み,該分子ドラッグ・ステージが, 前記軸線のまわりを回転する前記駆動シャフトに連結せるロータ, 接線方向流のチャネル,該接線方向流のチャネルへの入口および前記接線方向流のチャネルからの出口を画成する,前記ロータディスクのまわりに配置されるステータ,ならびに, 前記接線方向流のチャネル内で前記出口の近傍に配置される静止バッフル,を含み,前記バッフルおよび前記ロータディスクが間に間隙を有し,前記ロータディスクに面する前記バッフルの表面が,前記間隙を画成するピーク,および粒子の集積のための,前記ピークの間にある谷部を含む表面不規則性をもつ,高真空ポンプ。15.前記ピークが間隔をあけた隆起部からなる,請求項14に記載の分子ドラッグ・コンプレッサ。16.前記隆起部と該隆起部との間の前記谷部が三角状の溝からなる,請求項15に記載の高真空ポンプ。17.前記隆起部が,前記ロータディスクから実質的に一様に離れる鋭い縁をもつ,請求項15に記載の高真空ポンプ。18.前記間隔があいた隆起部が前記ロータディスクの回転方向に実質的に垂直に配置される,請求項15に記載の高真空ポンプ。19.前記隆起部が,前記間隙の寸法の約5〜25倍の範囲にある距離だけ離されている,請求項15に記載の高真空ポンプ。20.前記谷部が,前記隆起部の間の間隔の約0.5〜2倍の範囲にある深さを有する,請求項15に記載の高真空ポンプ。21.前記出口が,ガス流の上流において,前記静止バッフルから離れ,これにより前記出口と前記粒子集積用のバッフルとの間に空間を画成する,請求項14に記載の高真空ポンプ。22.前記ステータおよび前記静止バッフルが,前記接線方向流のチャネルと前記出口との間にスムーズに湾曲した遷移部を与えるように形状付けられ,これにより前記接線方向流のチャネルから前記出口への層流が形成される,請求項14に記載の高真空ポンプ。23.前記接線方向流のチャネルが,粒子の集積を促進する表面の不規則性をもつ少なくとも一つの面を含む,請求項14に記載の高真空ポンプ。24.分子ドラッグ・コンプレッサであって, 軸線のまわりを回転する駆動シャフトに連結するロータディスクと, 接線方向流のチャネル,該接線方向流のチャネルへの入口,および前記接線方向流のチャネルからの出口を画成する,前記ロータディスクのまわりに位置するステータと, 前記接線方向流のチャネル内で,前記出口の近傍に配置される静止バッフルと,を含み,前記出口が,ガス流の上流において,前記静止バッフルから離れ,これにより前記出口と前記粒子集積のためのバッフルとの間に空間が画成される,ところの分子ドラッグ・コンプレッサ。25.分子ドラッグ・コンプレッサであって, 軸線のまわりを回転する駆動シャフトに連結するロータディスクと, 接線方向流のチャネル,該接線方向流のチャネルへの入口,および前記接線方向流のチャネルからの出口を画成する,前記ロータディスクのまわりに位置するステータと, 前記接線方向流のチャネル内で,前記出口の近傍に配置される静止バッフルと,を含み,前記ステータおよび前記静止バッフルが,前記接線方向流のチャネルと前記出口との間にスムーズに湾曲する遷移部を与えるように形状付けられ,これにより,前記接線方向流のチャネルから前記出口への層流が形成される,ところの分子ドラッグ・コンプレッサ。26.分子ドラッグ・コンプレッサであって, 軸線のまわりを回転する駆動シャフトに連結するロータディスクと, 接線方向流のチャネル,該接線方向流のチャネルへの入口,および前記接線方向流のチャネルからの出口を画成する,前記ロータディスクのまわりに位置するステータと, 前記接線方向流のチャネル内で,前記出口の近傍に配置される静止バッフルと,を含み,前記接線方向流のチャネルが,粒子の集積を促進する表面不規則性を有する少なくとも一つの面を含む,ところの分子ドラッグ・コンプレッサ。
IPC (2件)：
FI (2件)：
F04D 19/04 E
, F04D 29/08 E
