特許
J-GLOBAL ID：200903014346657690
光ディスク基板の製造装置並びに製造方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
武 顕次郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-011995
公開番号（公開出願番号）：特開2000-215525
出願日： 1999年01月20日
公開日（公表日）： 2000年08月04日
要約：
【要約】【課題】 光ディスク基板内周部に発生する傘状に湾曲した歪みを低減し、機械特性に優れた光ディスク基板を効率よく成形可能にする。【解決手段】 金型内に射出充填された溶融樹脂が冷却固化し、可動金型が固定金型から離れると、基板用取り出し機2により可動金型から光ディスク基板5を取り出す。そして光ディスク基板5を冷却用ステージ4または図示しない光ディスク基板用キャリアに置く。その後、光ディスク基板5の載った冷却用ステージ4または光ディスク基板用キャリアをコンベア7によってトンネル状の炉6の中に入れる。基板5は入口付近の温度が80〜140°C、出口付近の温度は30〜80°Cの炉6で徐冷される。
請求項（抜粋）：
溶融状態の基板材料を所定の温度に保持された金型内で射出して透明基板を成形する基板成形手段と、その基板成形手段によって成形された高温状態の透明基板を、前記金型の温度よりも低く、かつ前記基板材料のガラス転移点以下の温度で保温する保温手段とを備えたことを特徴とする光ディスク基板の製造装置。
Fターム (3件)：
5D121DD05
, 5D121DD13
, 5D121DD17
