特許

J-GLOBAL ID：200903014359205356

電子ビーム露光方法

発明者： 安田 洋 ,  高橋 靖 ,  坂本 樹一 ,  山田 章夫 ,  大饗 義久 ,  甲斐 潤一 ,  笛木 俊介 ,  川島 憲一
出願人/特許権者： 富士通株式会社
代理人 (1件)： 青木 朗 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-051808
公開番号（公開出願番号）：特開平5-166707
出願日： 1992年03月10日
公開日（公表日）： 1993年07月02日
要約：

【要約】 (修正有)【目的】 ブランキングアパーチャアレイ6を用いて多数の電子ビームを連続走査するようにした電子ビーム露光方法に関し、クーロン相互作用による焦点ずれを補正するためのリフォーカスを容易に実行でき、また該アレイ6上での配線を容易とし、且つ試料面上に隙間なく露光する。【構成】 アレー6は二次元的な配列構成を有する複数個のブランキングアパチャー62から構成され、アレーを制御する制御系24は荷電粒子ビームがアパチャー62を通過して被露光体19に到達する様にするオン状態と、到達しない様にするオフ状態の何れかに設定する様にそれぞれを独立に制御するものであり、更に他の制御系は、当該被露光体19に於ける荷電粒子ビームにより露光されるべき所定の位置或いは当該位置とその近傍の周辺位置が、アレー6に於ける異なるアパチャー62を通過した複数個の荷電粒子ビームによって複数回重ね打ちされる様に制御する。

請求項（抜粋）：

荷電粒子のビームを発生する荷電粒子ビーム発生手段と、発生した該荷電粒子ビームを整形する為の、2次元的に配列されたブランキングアパチャーを有するブランキングアパチャーアレーと、被露光体を支持するステージと、該ブランキングアパチャーアレーを透過した該荷電粒子ビームのパターンを該被露光体の所定の位置に照射させる為に該荷電粒子ビームを所定の量、偏向する偏向手段、とから構成されている荷電粒子ビーム露光装置を用いた露光方法であって、該被露光体上の限定された第1の領域に2次元的に整形された荷電粒子ビームのパターンを照射する第1の工程と、引き続いて、該被露光体上の該第1の領域と重複する重複領域を有する第2の領域に2次元的に整形された荷電粒子ビームのパターンを照射する第2の工程とを有し、該第1及び第2の工程それぞれにおいて、該被露光体を照射すべく隣合うブランキングアパチャーを通過した複数個の該荷電粒子ビームを、該被露光体上においても互いに近接した位置に照射し、且つ、該重複領域中の所定の位置を、該第1の工程と第2の工程とに露光量を分割して複数回露光する事を特徴とする荷電粒子ビーム露光方法。

IPC (5件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 504 ,  G21K 5/04 ,  H01J 37/09 ,  H01J 37/305

FI (2件)：

H01L 21/30 341 J ,  H01L 21/30 341 S