特許
J-GLOBAL ID：200903014364880550
電子源及び画像表示装置の製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
若林 忠
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-319990
公開番号（公開出願番号）：特開平8-180800
出願日： 1994年12月22日
公開日（公表日）： 1996年07月12日
要約：
【要約】【目的】 安価で工程数の少ない、配線部分の信頼性のよい、高密度な画素配列が可能な電子源、これを用いる画像表示装置、それらの製造方法の提供。【構成】 走査側と信号側の各配線の直交位置に配設され、配線の一組以上を順次選択し、通電されるようにした電子源を2次元平面上に複数個配設して構成される単純マトリクス方式による電子源の製造方法で、電子ビーム源に通電する作用を有する信号側配線と走査側配線との交差部分近傍に導体層を形成するA、素子電極部分を形成するB、外部回路との接続部分の導体部分を形成するC、信号側配線と走査側配線との間を絶縁する層間絶縁膜を形成するD、走査側及び信号側の配線となる導体層を形成するE、電子放出部を形成するFの各工程を含む電子源の製造方法の、工程AとB及び/又はCを同時に実施する方法、該方法による電子源、該電子源より成る画像表示装置。
請求項（抜粋）：
電子源が、走査側配線と信号側配線の直交する位置に配設され、且つ該配線の一組又は複数組を順次選択することにより、前記電子源に通電されるようにした電子源を2次元平面上に複数個配設することによって構成される単純マトリクス方式による電子源の製造方法であって、(1)電子ビーム源に通電する作用を有する信号側配線と走査側配線との交差部分近傍に、予め導体層を形成しておく工程、(2)素子電極部分を形成する工程、(3)外部回路との接続部分の導体部分を形成する工程、(4)信号側配線と走査側配線との間を絶縁するための層間絶縁膜を形成する工程、(5)走査側及び信号側の配線となる導体層を形成する工程、(6)電子放出部を形成する工程、の(1)〜(6)の各工程を含む電子源の製造方法において、前記工程(1)と(2)又は(3)を同時に実施することを特徴とする電子源の製造方法。
IPC (4件)：
H01J 9/02
, H01J 31/12
, H01J 31/15
, H04N 5/68
