特許
J-GLOBAL ID：200903014368035226

ガス処理装置

発明者：
鈴木 義信

鈴木 義信 について

, 
榊原 久介

榊原 久介 について


出願人/特許権者：
株式会社デンソー

株式会社デンソー について


代理人 (1件)： 石黒 健二
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-324784
公開番号（公開出願番号）：特開2000-140562
出願日： 1998年11月16日
公開日（公表日）： 2000年05月23日
要約：
【要約】【課題】 通風抵抗が小さく、且つ処理対象ガスの処理効率が高いガス処理装置の提供。【解決手段】 ガス処理装置Aは、ダクト1内に間隔を開けて交互に垂直配置される放電電極2およびアース電極3と、これら電極間に配される触媒4とを備え、高電圧を各放電電極2- 各アース電極間3に印加して、発生するプラズマによりガス10を処理する。
請求項（抜粋）：
通風路内を流れる処理対象ガスのガス流が直交して接触する様に、通風路内に配置されるハニカム構造触媒と、該ハニカム構造触媒を挟み、前記ガス流が直交して通過する様に通風路内に配置される放電電極およびアース電極とを備え、高電圧を前記放電電極- 前記アース電極間に印加して、発生するプラズマにより前記ガスを処理するガス処理装置。
IPC (8件)：
B01D 53/32 ,  B01D 53/38 ,  B01D 53/74 ,  B01D 53/40 ,  B01D 53/42 ,  B01D 53/86 ,  B01J 19/08 ,  B01J 21/06
FI (8件)：
B01D 53/32 ,  B01J 19/08 E ,  B01J 21/06 M ,  B01D 53/34 116 H ,  B01D 53/34 118 Z ,  B01D 53/34 119 ,  B01D 53/36 H ,  B01D 53/36 G
Fターム (45件)：
4D002AA03 ,  4D002AA06 ,  4D002AA13 ,  4D002AA14 ,  4D002AA32 ,  4D002AA40 ,  4D002AB02 ,  4D002AC10 ,  4D002BA05 ,  4D002BA06 ,  4D002BA07 ,  4D002CA20 ,  4D002DA70 ,  4D002GA01 ,  4D002GB20 ,  4D048AA01 ,  4D048AA03 ,  4D048AA08 ,  4D048AA17 ,  4D048AA19 ,  4D048AA22 ,  4D048AB03 ,  4D048AB05 ,  4D048BA07X ,  4D048BB02 ,  4D048CC33 ,  4D048EA03 ,  4G069AA04 ,  4G069BA04A ,  4G069BA04B ,  4G069BA13A ,  4G069BA13B ,  4G069CA01 ,  4G069CA10 ,  4G069CA17 ,  4G069DA06 ,  4G069EA18 ,  4G075AA03 ,  4G075BD01 ,  4G075CA47 ,  4G075DA02 ,  4G075EB42 ,  4G075EC21 ,  4G075EE12 ,  4G075EE33
引用特許：
審査官引用 (2件)

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