反射屈折縮小投影光学系及び露光装置

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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-012502
公開番号（公開出願番号）：特開平8-203812
出願日： 1995年01月30日
公開日（公表日）： 1996年08月09日
要約：

【要約】【目的】ビームスプリッタを比較的小さくしつつ大きな開口数を達成し、半導体製造装置として優れた性能を達成する。【構成】第1物体(R) の縮小像を第2物体(W) 上に形成する露光装置は、第1レンズ群(G1)と、ビームスプリッタ(BS)と、第2レンズ群(G2)と、凹面反射鏡(M) とを有し第1物体(R) の1次像(I1)を形成する第1部分光学系と、正屈折力の第4レンズ群(G4)を有し1次像(I1)の縮小像を第2物体(W) に形成する第2部分光学系とを備える。そして、第1部分光学系と第2部分光学系との間の光路中には、第3レンズ群(G3)が配置される。

請求項（抜粋）：

第1物体の縮小像を第2物体上に形成する反射屈折型投影光学系において、第1レンズ群と、ビームスプリッタと、第2レンズ群と、凹面反射鏡とを有し、前記第1物体からの光を前記第1レンズ群、前記ビームスプリッタ及び前記第2レンズ群の順に通過させて前記凹面反射鏡へ導くと共に、前記凹面反射鏡にて反射された光を前記第2レンズ群及び前記ビームスプリッタの順に通過させて前記第1物体の1次像を形成する第1部分光学系と、正屈折力の第4レンズ群を有し、かつ前記1次像の縮小像を前記第2物体上に形成する第2部分光学系と、前記ビームスプリッタと前記第4レンズ群との間の光路中に配置される第3レンズ群とを有することを特徴とする反射屈折縮小投影光学系。

IPC (3件)：

H01L 21/027 , G02B 17/08 , G03F 7/20 521

FI (2件)：

H01L 21/30 517 , H01L 21/30 515 D

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